中文摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第1章 绪论 | 第17-36页 |
1.1 表面等离子体共振概述 | 第17-28页 |
1.1.1 表面等离子体共振技术研究历程 | 第17-19页 |
1.1.2 表面等离子体共振传感器类型 | 第19-25页 |
1.1.3 表面等离子体共振传感器检测方法 | 第25-27页 |
1.1.4 表面等离子体共振的应用 | 第27-28页 |
1.2 表面等离子体共振成像 | 第28-32页 |
1.2.1 表面等离子体共振成像的研究现状 | 第28-31页 |
1.2.2 表面等离子体共振成像的应用 | 第31-32页 |
1.3 本文的研究意义和主要内容 | 第32-36页 |
1.3.1 本文的研究意义 | 第32-33页 |
1.3.2 本文的主要内容 | 第33-36页 |
第2章 表面等离子体共振的基本理论 | 第36-56页 |
2.1 引言 | 第36页 |
2.2 光波的基本理论 | 第36-47页 |
2.2.1 电磁场基本方程 | 第37-40页 |
2.2.2 全反射理论与倏逝波理论 | 第40-45页 |
2.2.3 光波在金属中的传播 | 第45-47页 |
2.3 表面等离子体共振原理 | 第47-55页 |
2.3.1 等离子体与表面等离子体的概念 | 第47页 |
2.3.2 金属表面等离子体 | 第47-50页 |
2.3.3 表面等离子体共振条件 | 第50-53页 |
2.3.4 反射率计算公式 | 第53-55页 |
2.4 本章小结 | 第55-56页 |
第3章 基于显微物镜的表面等离子体共振成像系统的设计与搭建 | 第56-84页 |
3.1 引言 | 第56-57页 |
3.2 表面等离子体共振成像系统的设计 | 第57-59页 |
3.2.1 耦合结构设计 | 第57-58页 |
3.2.2 成像系统的光路设计 | 第58-59页 |
3.3 成像芯片的设计与制作 | 第59-78页 |
3.3.1 金属膜的选择 | 第59-61页 |
3.3.2 金属薄膜材料与厚度对表面等离子体共振的影响 | 第61-70页 |
3.3.3 金膜的制备 | 第70-73页 |
3.3.4 金膜的表征 | 第73-76页 |
3.3.5 金膜的表面等离子体共振实验曲线 | 第76-78页 |
3.4 表面等离子体共振成像系统的搭建 | 第78-83页 |
3.4.1 光源 | 第78-79页 |
3.4.2 显微物镜 | 第79-80页 |
3.4.3 光学元件及光路 | 第80-82页 |
3.4.4 成像系统的软件控制 | 第82-83页 |
3.5 本章小结 | 第83-84页 |
第4章 基于显微物镜后焦面图像的折射率检测研究 | 第84-104页 |
4.1 引言 | 第84页 |
4.2 后焦面成像原理研究 | 第84-90页 |
4.3 全反射法对后焦面角度标定 | 第90-95页 |
4.4 折射率检测过程及结果分析 | 第95-103页 |
4.4.1 空气样品折射率检测 | 第96-98页 |
4.4.2 水样品折射率检测 | 第98-99页 |
4.4.3 乙醇样品折射率检测 | 第99-101页 |
4.4.4 检测结果及误差分析 | 第101-103页 |
4.5 本章小结 | 第103-104页 |
第5章 基于狭缝扫描的表面等离子体共振成像研究 | 第104-119页 |
5.1 引言 | 第104页 |
5.2 基于狭缝扫描的成像方法 | 第104-111页 |
5.2.1 氮化硅光栅样品 | 第104-106页 |
5.2.2 基于狭缝扫描的成像原理分析 | 第106-110页 |
5.2.3 基于狭缝扫描的成像光路 | 第110-111页 |
5.3 基于狭缝扫描的成像实验研究 | 第111-116页 |
5.3.1 样品的物镜后焦面图像 | 第111-112页 |
5.3.2 样品表面等离子体共振图像 | 第112-116页 |
5.4 共振角谱图像 | 第116-118页 |
5.4.1 角度调制数据提取 | 第116-117页 |
5.4.2 表面等离子体共振角谱图 | 第117-118页 |
5.5 本章小结 | 第118-119页 |
结论 | 第119-122页 |
参考文献 | 第122-133页 |
致谢 | 第133-134页 |
攻读学位期间发表论文 | 第134-135页 |
专利 | 第135页 |