| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 引言 | 第9-10页 |
| 第二章 文献综述 | 第10-22页 |
| 2.1 无机闪烁晶体简介 | 第10-17页 |
| 2.1.1 无机闪烁晶体的发展史 | 第10页 |
| 2.1.2 无机闪烁晶体的制备方法 | 第10-12页 |
| 2.1.3 无机闪烁晶体的发光机制 | 第12-13页 |
| 2.1.4 无机闪烁晶体的性能表征参数 | 第13-15页 |
| 2.1.5 无机闪烁晶体的应用和发展趋势 | 第15-17页 |
| 2.2 GdI_3:Ce闪烁晶体的研究难点及研究现状 | 第17-22页 |
| 2.2.1 GdI_3:Ce晶体研究难点 | 第17-19页 |
| 2.2.2 GdI_3:Ce闪烁晶体国内外研究现状 | 第19-21页 |
| 2.2.3 小结 | 第21-22页 |
| 第三章 GdI_3:Ce晶体生长和制样加工 | 第22-32页 |
| 3.1 GdI_3:Ce晶体生长 | 第22-25页 |
| 3.1.1 真空石英坩埚下降法晶体生长 | 第22页 |
| 3.1.2 前期装料准备 | 第22-24页 |
| 3.1.3 晶体生长流程 | 第24-25页 |
| 3.2 生长工艺参数调整和确定 | 第25-28页 |
| 3.2.1 粉末保温材料选择 | 第25-27页 |
| 3.2.2 化料排杂 | 第27页 |
| 3.2.3 生长速率 | 第27页 |
| 3.2.4 坩埚形状确定 | 第27页 |
| 3.2.5 降温速率 | 第27-28页 |
| 3.3 晶体加工与样品封装 | 第28-32页 |
| 3.3.1 晶体加工 | 第28-29页 |
| 3.3.2 样品封装 | 第29-32页 |
| 第四章 GdI_3:Ce晶体性能测试分析 | 第32-53页 |
| 4.1 X射线衍射分析 | 第32-34页 |
| 4.2 X射线激发发射谱(XEL) | 第34-37页 |
| 4.3 紫外激发和发射光谱 | 第37-43页 |
| 4.3.1 紫外激发光谱 | 第37-39页 |
| 4.3.2 紫外发射光谱 | 第39-43页 |
| 4.4 γ射线激发下的多道能谱和能量分辨率 | 第43-48页 |
| 4.5 伽马射线激发下的衰减时间 | 第48-51页 |
| 4.6 中子测试 | 第51-53页 |
| 第五章 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 致谢 | 第58-60页 |
| 攻读学位期间所开展的科研项目和发表的学术论文 | 第60页 |