| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 磁性薄膜研究现状 | 第12-15页 |
| 1.2.1 纳米软磁颗粒膜 | 第12页 |
| 1.2.2 多层结构薄膜 | 第12-13页 |
| 1.2.3 图形化薄膜 | 第13-14页 |
| 1.2.4 磁性薄膜在抗电磁干扰领域的应用 | 第14-15页 |
| 1.3 本论文研究意义和主要内容 | 第15-17页 |
| 第二章 磁性材料相关理论及材料制备表征方法 | 第17-32页 |
| 2.1 磁各向异性 | 第17-19页 |
| 2.1.1 磁晶各向异性 | 第17-18页 |
| 2.1.2 磁形状各向异性与磁应力各向异性 | 第18页 |
| 2.1.3 磁感生各向异性 | 第18-19页 |
| 2.1.4 交换各向异性 | 第19页 |
| 2.2 技术磁化 | 第19-22页 |
| 2.2.1 畴壁位移磁化过程 | 第20-21页 |
| 2.2.1.1 应力模型 | 第20-21页 |
| 2.2.1.2 含杂模型 | 第21页 |
| 2.2.2 磁畴转动磁化过程 | 第21-22页 |
| 2.2.3 反磁化过程 | 第22页 |
| 2.3 动态磁化 | 第22-24页 |
| 2.3.1 复数磁导率 | 第22-23页 |
| 2.3.2 磁化强度运动方程 | 第23页 |
| 2.3.3 动态磁化的畴壁共振机理 | 第23-24页 |
| 2.3.4 磁畴的自然共振机理 | 第24页 |
| 2.4 薄膜的制备 | 第24-27页 |
| 2.4.1 磁控溅射的工作原理 | 第24-25页 |
| 2.4.2 光刻技术 | 第25-27页 |
| 2.5 薄膜的表征方法 | 第27-30页 |
| 2.5.1 X射线衍射法 | 第27-28页 |
| 2.5.2 扫描电子显微镜 | 第28页 |
| 2.5.3 振动样品磁强计（VSM） | 第28-29页 |
| 2.5.4 矢量网络分析仪 | 第29-30页 |
| 2.6 本章小结 | 第30-32页 |
| 第三章 连续多层薄膜的制备与磁特性研究 | 第32-50页 |
| 3.1 FeCoB/SiO_2/FeCoSiB多层薄膜的制备及磁特性研究 | 第32-39页 |
| 3.1.1 FeCoB/FeCoSiB多层薄膜的制备及磁特性研究 | 第32-34页 |
| 3.1.1.1 FeCoB/FeCoSiB多层薄膜静态磁性能研究 | 第33-34页 |
| 3.1.1.2 FeCoB/FeCoSiB多层薄膜动态磁性能研究 | 第34页 |
| 3.1.2 FeCoB/SiO_2/FeCoSiB多层薄膜的制备及磁特性研究 | 第34-39页 |
| 3.1.2.1 FeCoB/SiO_2(7nm)/FeCoSiB多层薄膜静态磁性能研究 | 第35-36页 |
| 3.1.2.2 FeCoB/SiO_2(xnm)/FeCoSiB多层薄膜动态磁性能研究 | 第36-39页 |
| 3.2 FeNi/SiO_2/FeCoSiB多层薄膜的制备及磁特性研究 | 第39-48页 |
| 3.2.1 FeNi单层薄膜的制备及磁特性研究 | 第40-44页 |
| 3.2.1.1 FeNi单层薄膜的制备及微观结构研究 | 第40-41页 |
| 3.2.1.2 不同厚度FeNi薄膜的静态磁性能研究 | 第41-43页 |
| 3.2.1.3 不同厚度FeNi薄膜的动态磁性能研究 | 第43-44页 |
| 3.2.2 FeNi/SiO_2/FeCoSiB多层薄膜的制备 | 第44-45页 |
| 3.2.3 FeNi/SiO_2/FeCoSiB多层薄膜的静态磁性能研究 | 第45-46页 |
| 3.2.4 FeNi/SiO_2/FeCoSiB多层薄膜的动态磁性能研究 | 第46-48页 |
| 3.3 FeNi/SiO_2/FeCoB多层薄膜的制备及动态磁性能研究 | 第48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 连续与图形化复合多层薄膜的制备与磁特性研究 | 第50-57页 |
| 4.1 FeNi/SiO_2/FeCoSiB条纹复合多层薄膜的制备及微观结构研究 | 第50-52页 |
| 4.2 FeNi/SiO_2/FeCoSiB条纹复合多层薄膜的静态磁性能研究 | 第52-53页 |
| 4.3 FeNi/SiO_2/FeCoSiB条纹复合多层薄膜的动态磁性能研究 | 第53-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 FeCoSiB条纹多层薄膜的制备与磁特性研究 | 第57-64页 |
| 5.1 FeCoSiB条纹多层薄膜的制备及微观结构研究 | 第57-59页 |
| 5.2 FeCoSiB条纹多层薄膜的静态磁性能研究 | 第59-60页 |
| 5.3 FeCoSiB条纹多层薄膜的动态磁性能研究 | 第60-62页 |
| 5.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第64-66页 |
| 6.1 全文总结 | 第64-65页 |
| 6.2 后续工作展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第70-71页 |
