GaAs基核辐射探测器理论模型及制备工艺研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-11页 |
1. 绪论 | 第11-19页 |
·论文研究背景 | 第11-12页 |
·核辐射探测器简介 | 第12页 |
·核辐射探测器的分类 | 第12-16页 |
·闪烁体探测器 | 第13页 |
·气体探测器 | 第13-14页 |
·半导体探测器 | 第14-16页 |
·论文研究意义 | 第16-18页 |
·论文研究内容 | 第18-19页 |
2. Ga As基核辐射探测器性能仿真 | 第19-51页 |
·Silvaco TCAD软件介绍 | 第19-25页 |
·核辐射探测器电学性能仿真研究 | 第25-37页 |
·器件结构设计 | 第25-28页 |
·电学仿真参数 | 第28-29页 |
·仿真结果及分析 | 第29-37页 |
·核辐射探测器 α 粒子辐射仿真研究 | 第37-49页 |
·辐射仿真参数 | 第37-39页 |
·仿真结果与分析 | 第39-49页 |
·本章小结 | 第49-51页 |
3. Ga As基核辐射探测器制备工艺 | 第51-63页 |
·Ga As的物理化学性质 | 第51页 |
·Ga As生长技术 | 第51-55页 |
·Ga As传统生长技术介绍 | 第52-54页 |
·金属有机化学气相外延(MOCVD) | 第54-55页 |
·分子束外延(MBE) | 第55页 |
·液相外延法(LPE) | 第55页 |
·Ga As探测器结构设计及光刻板版图设计 | 第55-57页 |
·探测器结构设计 | 第56页 |
·光刻板版图设计 | 第56-57页 |
·Ga As基核辐射探测器件制备 | 第57-61页 |
·光刻工艺 | 第57-59页 |
·欧姆接触工艺 | 第59-60页 |
·探测器器件制作 | 第60-61页 |
·本章小结 | 第61-63页 |
4. 实验测试结果与分析 | 第63-67页 |
·SEM测试 | 第63-64页 |
·Ga As基核辐射探测器电学测试 | 第64-66页 |
·核辐射探测器核电子学测试 | 第66页 |
·本章小结 | 第66-67页 |
5. 总结与展望 | 第67-69页 |
·论文总结 | 第67-68页 |
·未来展望 | 第68-69页 |
致谢 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-75页 |
附录 | 第75页 |