单晶铌酸锂薄膜的结构和属性研究
| 中文摘要 | 第1-14页 |
| ABSTRACT | 第14-19页 |
| 符号说明 | 第19-21页 |
| 第一章 绪论 | 第21-32页 |
| ·集成光学与光波导 | 第21-23页 |
| ·单晶铌酸锂薄膜的研究现状 | 第23-27页 |
| ·论文中要研究的单晶铌酸锂薄膜的问题 | 第27-28页 |
| ·论文内容概况及安排 | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-32页 |
| 第二章 基本原理和实验方法 | 第32-54页 |
| ·离子注入 | 第33-35页 |
| ·直接键合 | 第35-36页 |
| ·棱镜耦合 | 第36-39页 |
| ·端面耦合 | 第39-40页 |
| ·卢瑟福背散射/沟道分析 | 第40-44页 |
| ·高分辨X射线衍射 | 第44-46页 |
| ·高分辨透射电子显微镜 | 第46-48页 |
| ·拉曼散射光谱 | 第48-49页 |
| ·聚焦离子束刻蚀 | 第49-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第三章 单晶铌酸锂薄膜的晶格损伤研究 | 第54-64页 |
| ·样品的制备 | 第55-56页 |
| ·棱镜耦合的研究 | 第56-57页 |
| ·高分辨X射线的研究 | 第57-58页 |
| ·卢瑟福背散射/沟道效应的研究 | 第58-59页 |
| ·拉曼散射的研究 | 第59-60页 |
| ·高分辨透射电子显微镜的研究 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 第四章 单晶铌酸锂薄膜应力和取向差的研究 | 第64-75页 |
| ·薄膜应力的基础理论 | 第65-66页 |
| ·样品的制备和实验方法 | 第66-67页 |
| ·高分辨X射线的测量和分析 | 第67-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-75页 |
| 第五章 线性电光系数的测量和微环谐振腔的制备 | 第75-92页 |
| ·单晶铌酸锂薄膜电光系数的研究 | 第76-83页 |
| ·单晶铌酸锂薄膜上微环谐振器的研究 | 第83-89页 |
| 参考文献 | 第89-92页 |
| 第六章 近化学计量比铌酸锂薄膜的制备和表征 | 第92-105页 |
| ·近化学计量比铌酸锂薄膜的研究意义和制备方法 | 第93-95页 |
| ·Li/Nb比对折射率的影响 | 第95-97页 |
| ·Li/Nb比对晶格常数的影响 | 第97-100页 |
| ·Li/Nb比对拉曼谱的影响 | 第100-101页 |
| ·本章小结 | 第101-102页 |
| 参考文献 | 第102-105页 |
| 第七章 总结 | 第105-109页 |
| ·主要研究结果 | 第106-108页 |
| ·主要创新点 | 第108-109页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及获得的奖励 | 第109-110页 |
| 致谢 | 第110-112页 |
| 附外文论文 | 第112-125页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第125页 |
