磁控溅射法制备TiN颜色薄膜的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| ·引言 | 第9-11页 |
| ·颜色玻璃概述 | 第11-15页 |
| ·物质的颜色 | 第11-13页 |
| ·颜色的度量 | 第13-14页 |
| ·颜色玻璃的种类及应用 | 第14-15页 |
| ·磁控溅射镀膜技术 | 第15-16页 |
| ·放电等离子体 | 第15页 |
| ·直流磁控溅射技术的工作原理 | 第15-16页 |
| ·TiN 薄膜简介 | 第16-18页 |
| ·TiN 晶体的结构 | 第16-17页 |
| ·TiN 薄膜的基本性质 | 第17-18页 |
| ·国内外的研究现状 | 第18-20页 |
| ·本课题的提出、研究目的和意义 | 第20-21页 |
| ·本课题的研究内容和方法 | 第21-22页 |
| 第二章 TiN 颜色薄膜的制备与相关测试 | 第22-29页 |
| ·实验 | 第22-25页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·实验设备及原料 | 第22页 |
| ·实验原料 | 第22-23页 |
| ·实验流程图 | 第23页 |
| ·实验步骤 | 第23-24页 |
| ·样品的系列沉积参数 | 第24-25页 |
| ·样品的测试手段 | 第25-29页 |
| ·台阶仪 | 第25-26页 |
| ·紫外可见近红外分光光度仪 | 第26-27页 |
| ·分光测色计 | 第27页 |
| ·雾度仪 | 第27页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD） | 第27-28页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第28页 |
| ·X 射线能量色散谱（EDS） | 第28-29页 |
| 第三章 工艺参数对薄膜性能的影响 | 第29-51页 |
| ·溅射功率对薄膜性能的影响 | 第29-35页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·薄膜制备的工艺参数 | 第29页 |
| ·溅射功率对薄膜沉积速率的影响 | 第29-30页 |
| ·不同溅射功率下的 X 衍射分析 | 第30-31页 |
| ·溅射功率对薄膜化学成分的影响 | 第31-32页 |
| ·溅射功率对薄膜颜色及色度的影响 | 第32-33页 |
| ·溅射功率对薄膜光谱反射性能的影响 | 第33-35页 |
| ·氮氩流量比对薄膜性能的影响 | 第35-41页 |
| ·引言 | 第35-36页 |
| ·薄膜制备的工艺参数 | 第36页 |
| ·氮氩流量比对成膜速率的影响 | 第36-37页 |
| ·氮氩流量比对薄膜化学成分的影响 | 第37-38页 |
| ·氮氩流量比对薄膜颜色及色度的影响 | 第38-40页 |
| ·氮氩流量比对薄膜光谱反射性能的影响 | 第40-41页 |
| ·工作压力对薄膜性能的影响 | 第41-45页 |
| ·引言 | 第41-42页 |
| ·薄膜制备的工艺参数 | 第42页 |
| ·工作压力对薄膜沉积速率的影响 | 第42-43页 |
| ·工作压力对薄膜颜色及色度的影响 | 第43-45页 |
| ·沉积时间对薄膜性能的影响 | 第45-49页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·薄膜制备的工艺参数 | 第45-46页 |
| ·沉积时间对薄膜颜色及色度的影响 | 第46-47页 |
| ·沉积时间对薄膜光谱反射性能的影响 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 后期热处理对薄膜性能的影响 | 第51-59页 |
| ·引言 | 第51-52页 |
| ·非晶薄膜 | 第51页 |
| ·基片温度对 TiN 薄膜的影响 | 第51-52页 |
| ·薄膜的热处理 | 第52-53页 |
| ·实验样品 | 第52页 |
| ·实验仪器 | 第52页 |
| ·温度制度 | 第52-53页 |
| ·薄膜性能的测试及表征 | 第53-58页 |
| ·后期热处理对薄膜结晶性能的影响 | 第53-54页 |
| ·热处理对薄膜表面形貌的影响 | 第54-56页 |
| ·热处理对薄膜光谱反射性能的影响 | 第56-57页 |
| ·热处理对薄膜与基体间结合力的影响 | 第57页 |
| ·热处理对薄膜耐腐蚀性能的影响 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 附录 | 第65页 |
