中文摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第1章 绪论 | 第10-22页 |
·光纤化学传感器简介 | 第10-12页 |
·光纤化学传感器的原理 | 第10页 |
·光纤化学传感器的特点和分类 | 第10-12页 |
·金属酞菁的制备与研究进展 | 第12-14页 |
·金属酞菁的制备 | 第12-13页 |
·金属酞菁催化的研究进展 | 第13-14页 |
·荧光材料简介 | 第14-17页 |
·钌(Ⅱ)配合物研究进展 | 第14-15页 |
·量子点的制备及其研究进展 | 第15-17页 |
·检测酚类物质的研究进展 | 第17-19页 |
·选题的目的、意义与主要内容 | 第19-22页 |
·选题的目的与意义 | 第19-20页 |
·主要研究内容 | 第20-22页 |
第2章 四-(8-羟基喹啉-5-磺酸)基铁酞菁的制备及对酚类物质的催化性能研究 | 第22-38页 |
·引言 | 第22页 |
·实验部分 | 第22-25页 |
·试剂和仪器 | 第22-23页 |
·四-(8-羟基喹啉-5-磺酸)基铁酞菁的制备 | 第23-24页 |
·金属酞菁的表征 | 第24-25页 |
·FePc-(QnSO_3H)_4催化氯酚氧化反应研究 | 第25页 |
·结果与讨论 | 第25-37页 |
·FePc-(QnSO_3H)_4的表征 | 第25-28页 |
·FePc-(QnSO_3H)_4催化五种酚类物质氧化反应的 UV-Vis 吸收光谱 | 第28-33页 |
·t-BuOOH 和 4-AAP 的浓度对于染料生成的影响 | 第33-34页 |
·pH 对染料生成的影响 | 第34-35页 |
·温度对染料生成的影响 | 第35-37页 |
本章小结 | 第37-38页 |
第3章 基于四-(8-羟基喹啉-5-磺酸)基铁酞菁催化的光纤 2-CP 传感器研究 | 第38-55页 |
·引言 | 第38页 |
·检测原理 | 第38-39页 |
·实验部分 | 第39-42页 |
·试剂和仪器 | 第39-40页 |
·CA 光学敏感膜的泄露实验 | 第40页 |
·PMMA/CA 氧敏感膜的制备 | 第40-41页 |
·光纤 2-CP 传感器的构建 | 第41页 |
·检测步骤 | 第41-42页 |
·结果与讨论 | 第42-53页 |
·PMMA/CA 氧敏感膜的泄露研究 | 第42-49页 |
·光纤 2-CP 传感器的响应时间 | 第49-50页 |
·光纤 2-CP 传感器的标准检测曲线 | 第50-52页 |
·光纤 2-CP 传感器的重复性及长期稳定性 | 第52-53页 |
·干扰离子检测 | 第53页 |
本章小结 | 第53-55页 |
第4章 TSFe(Ⅲ)Pc-CdTe 量子点体系在氯酚检测中的应用 | 第55-68页 |
·引言 | 第55页 |
·实验部分 | 第55-58页 |
·试剂和仪器 | 第55-56页 |
·TSFe(Ⅲ)Pc 的制备与表征 | 第56-57页 |
·CdTe 量子点的制备与表征 | 第57页 |
·TSFe(Ⅲ)Pc 催化酚类化合物氧化的 UV-Vis 检测 | 第57-58页 |
·TSFe(Ⅲ)Pc-CdTe 量子点体系对 2-氯苯酚的荧光检测 | 第58页 |
·结果与讨论 | 第58-67页 |
·TSFe(Ⅲ)Pc 的表征 | 第58-60页 |
·CdTe 的表征 | 第60-61页 |
·TSFe(Ⅲ)Pc-CdTe 量子点体系对 2-CP 的催化氧化反应 | 第61页 |
·pH 对 2-CP 催化氧化反应影响 | 第61-62页 |
·4 -AAP 用量对 2-CP 催化氧化反应影响 | 第62页 |
·TSFe(Ⅲ)Pc 用量对 2-CP 催化氧化反应影响 | 第62-63页 |
·温度的影响对 2-CP 催化氧化反应影响 | 第63-64页 |
·基于化学催化-荧光猝灭原理的 2-氯苯酚检测的标准曲线 | 第64-65页 |
·干扰离子的影响及实际样品检测 | 第65-67页 |
本章小结 | 第67-68页 |
第5章 结论 | 第68-70页 |
本论文的创新点 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-75页 |
致谢 | 第75页 |