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基于四苯基硅烷的宽禁带半导体材料的设计合成与光电性能研究

摘要第1-8页
Abstract第8-14页
第一章 前言第14-42页
   ·宽带隙半导体绪论第14-15页
   ·如何制备宽带隙材料第15-40页
     ·主链非共轭法第15-16页
     ·扭曲打断共轭法第16-28页
     ·引入杂原子打断共轭法第28-40页
   ·本论文的设计思路第40-42页
     ·本论文的选题第40-41页
     ·本论文的设计思路第41页
     ·本论文的结构第41-42页
第二章 基于四苯基硅烷,芴,二苯基醚为中心宽禁带材料的性质研究第42-62页
   ·引言第42-43页
   ·分子的合成与结构表征第43-47页
   ·化合物基本性质比较第47-55页
     ·热学性质比较第47-48页
     ·光物理性质比较与自然跃迁轨道(natural transition orbital NTO)第48-52页
     ·电化学性质比较与前线轨道分布第52-55页
   ·化合物的电致发光性能比较第55-59页
     ·蓝色发光器件性能比较第55-57页
     ·绿色发光器件性能的比较第57-59页
   ·性质比较总结第59-61页
   ·本章小结第61-62页
第三章 基于咔唑、二苯基磷酰基的四苯基硅宽禁带材料的合成与性质研究第62-80页
   ·前言第62-64页
   ·分子的合成与结构表征第64-69页
   ·分子的基本性质表征第69-74页
     ·热学性质表征第69页
     ·光物理性质表征第69-71页
     ·电化学性质表征第71-72页
     ·理论模拟结果第72-74页
   ·电致发光性质表征第74-79页
   ·本章小结第79-80页
第四章 基于菲并咪唑的四苯基硅宽禁带材料的合成与性质研究第80-96页
   ·前言第80-82页
   ·分子的合成与性质表征第82-86页
   ·基本性质表征第86-91页
     ·热学性质表征第86页
     ·光物理性质表征第86-88页
     ·电化学性质表征第88-89页
     ·理论模拟第89-91页
   ·电学致发光性能的研究第91-94页
     ·单载流子器件性能第91-92页
     ·电致发光性能第92-94页
   ·本章小结第94-96页
第五章 基于双重四苯基硅烷中心可溶液加工分子的合成与性质表征第96-108页
   ·前言第96-97页
   ·分子合成与结构表征第97-99页
   ·分子基本性质表征第99-105页
     ·分子的热学与形貌学性能比较第99-101页
     ·分子光物理性质比对第101-103页
     ·电化学性质比较第103-104页
     ·理论模拟性质第104-105页
   ·电致发光性能比较第105-107页
   ·本章小结第107-108页
第六章 实验试剂和测试仪器第108-112页
   ·实验试剂和药品第108页
   ·实验仪器及测试方法第108-112页
参考文献第112-128页
作者简历及成果第128-130页
致谢第130-131页

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