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短沟道双栅和围栅MOSFET的模拟研究

摘要第1-4页
Abstract第4-8页
第一章 绪论第8-14页
   ·研究背景与意义第8-9页
   ·MOS器件的研究现状第9-13页
     ·MOS器件的发展第9-10页
     ·新型MOS器件结构第10-13页
   ·主要研究内容和论文架构第13-14页
第二章 多栅MOSFET的结构和工作原理第14-24页
   ·双栅MOSFET的结构与原理第14-16页
     ·双栅MOSFET的工艺第14-15页
     ·双栅MOSFET的长沟道模型第15-16页
   ·围栅MOSFET的结构与原理第16-19页
     ·围栅MOSFET的工艺第17页
     ·围栅MOSFET的长沟道模型第17-19页
   ·肖特基势垒源漏MOSFET的结构与原理第19-22页
     ·肖特基接触及势垒第19-20页
     ·肖特基势垒降低第20-21页
     ·肖特基势垒源漏MOSFET第21-22页
   ·模拟工具第22-23页
   ·本章小结第23-24页
第三章 短沟道双栅MOSFET的解析模型及模拟研究第24-34页
   ·短沟道双栅MOSFET的解析模型第24-29页
     ·电势模型第24-28页
     ·阈值电压模型第28-29页
   ·结果与讨论第29-32页
   ·本章小结第32-34页
第四章 短沟道围栅MOSFET的解析模型及模拟研究第34-44页
   ·短沟道围栅MOSFET的解析模型第34-38页
     ·电势模型第34-37页
     ·阈值电压模型第37-38页
   ·结果与讨论第38-41页
   ·本章小结第41-44页
第五章 短沟道双栅掺杂隔离肖特基MOSFET的解析模型及模拟研究第44-52页
   ·短沟道DG DSS MOSFET的解析模型第44-47页
     ·电势模型第44-47页
     ·阈值电压模型第47页
   ·结果与讨论第47-51页
   ·本章小结第51-52页
第六章 总结与展望第52-54页
   ·总结第52-53页
   ·展望第53-54页
致谢第54-55页
参考文献第55-61页
附录:作者在攻读硕士学位期间发表的论文第61页

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