| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-19页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·半导体激光器与面发射半导体激光器的基本概念 | 第7-10页 |
| ·VCSEL的发展历程 | 第10-12页 |
| ·VCSEL的发展方向 | 第12-16页 |
| ·VCSEL的应用 | 第16-18页 |
| ·本论文的主要工作 | 第18-19页 |
| 第二章 VCSEL的原理和相关理论 | 第19-24页 |
| ·半导体激光器发光原理 | 第19-20页 |
| ·分布式布拉格反射材料选择 | 第20-21页 |
| ·VCSEL的单纵膜工作 | 第21-22页 |
| ·阈值激射条件分析 | 第22-23页 |
| ·光功率输出 | 第23-24页 |
| 第三章 VCSEL的工艺研究 | 第24-41页 |
| ·芯片中存在的污染及芯片的清洗 | 第25-26页 |
| ·光刻工艺 | 第26-33页 |
| ·刻蚀工艺 | 第33-37页 |
| ·湿法选择性氧化及工艺改良 | 第37-39页 |
| ·减薄工艺 | 第39-41页 |
| 第四章 VCSEL器件检测 | 第41-50页 |
| ·阈值电流分析 | 第41页 |
| ·光电特性测试 | 第41-43页 |
| ·VCSEL光谱检测 | 第43-44页 |
| ·VCSEL光场分布检测 | 第44-50页 |
| 总结 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |