500～1200nm宽带减反膜的研制
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-11页 |
| ·光学薄膜的发展概述 | 第8-9页 |
| ·减反射膜 | 第9页 |
| ·宽带减反膜近几年研究现状 | 第9页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第9-11页 |
| 第二章 光学薄膜的基本理论 | 第11-20页 |
| ·光学薄膜的理论计算 | 第11-16页 |
| ·单层介质薄膜的特性计算 | 第11-15页 |
| ·多层薄膜的特性计算 | 第15-16页 |
| ·光学薄膜设计理论 | 第16-20页 |
| 第三章 减反膜的设计 | 第20-33页 |
| ·光学薄膜设计方法 | 第20页 |
| ·周期膜系减反射膜 | 第20-25页 |
| ·单层周期减反射膜 | 第21页 |
| ·双层周期减反射膜 | 第21-22页 |
| ·多层周期减反射膜 | 第22-25页 |
| ·选择介质薄膜材料的基本要求 | 第25页 |
| ·常用的光学薄膜材料 | 第25-26页 |
| ·Willey理论 | 第26-27页 |
| ·薄膜材料的选择 | 第27页 |
| ·宽带减反膜的设计理论 | 第27-31页 |
| ·光学常数的反演 | 第27-30页 |
| ·双有效界面法 | 第30-31页 |
| ·变尺度法 | 第31页 |
| ·膜系优化 | 第31-33页 |
| 第四章 减反射膜的制备 | 第33-45页 |
| ·实验设备 | 第33-40页 |
| ·真空系统 | 第33-36页 |
| ·蒸镀系统 | 第36-37页 |
| ·薄膜厚度监控系统 | 第37-39页 |
| ·薄膜辅助淀积系统 | 第39-40页 |
| ·测试设备 | 第40-41页 |
| ·薄膜材料工艺参数及光学常数的确定 | 第41-45页 |
| ·工艺参数的确定 | 第41-42页 |
| ·光学常数的确定 | 第42-44页 |
| ·修正系数 | 第44-45页 |
| 第五章 测试结果及误差分析 | 第45-50页 |
| ·测试结果 | 第45页 |
| ·误差分析与解决办法 | 第45-49页 |
| ·薄膜环境测试 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
