阶段平衡法提取硅的工艺研究及装置设计
| 目录 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第11-13页 |
| ·硅材料 | 第13-19页 |
| ·硅的晶体结构 | 第13-14页 |
| ·硅的生长方式 | 第14-18页 |
| ·硅的性质及应用 | 第18-19页 |
| ·硅的制备及提纯方法研究现状 | 第19-26页 |
| ·课题研究的内容 | 第26-27页 |
| 第2章 实验方法 | 第27-33页 |
| ·试验原料 | 第27页 |
| ·试验仪器及设备 | 第27-28页 |
| ·试验设计 | 第28-31页 |
| ·性能测试 | 第31-33页 |
| ·X射线衍射仪进行物相分析 | 第31-32页 |
| ·扫描电子显微镜进行硅的微区成分分析 | 第32-33页 |
| 第3章 实验结果与分析 | 第33-44页 |
| ·原始合金溶解 | 第33页 |
| ·不同降温参数对硅片大小的影响 | 第33-40页 |
| ·保温温度与硅大小的关系 | 第33-35页 |
| ·降温幅度与硅大小的关系 | 第35-37页 |
| ·保温间隔时间与硅大小的关系 | 第37-38页 |
| ·凝固终止温度与硅大小的关系 | 第38-39页 |
| ·动态搅拌速度对硅片大小的影响 | 第39-40页 |
| ·硅片聚集状态分析 | 第40-41页 |
| ·优化条件下的提取率 | 第41-42页 |
| ·硅片生长规律分析 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 基于阶段降温法提取硅的装置设计 | 第44-66页 |
| ·装置的设计思路及设计方案 | 第44-46页 |
| ·提取装置的设计思路 | 第44-45页 |
| ·设计方案 | 第45-46页 |
| ·装置设计 | 第46-64页 |
| ·装置设计的主要技术参数 | 第46页 |
| ·保温单元 | 第46-48页 |
| ·搅拌单元 | 第48-50页 |
| ·升降单元 | 第50-59页 |
| ·机架 | 第59-61页 |
| ·控制单元 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的论文目录 | 第74-75页 |
| 附录 | 第75-81页 |
