| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·铁电材料概述 | 第12-13页 |
| ·钙钛矿型铁电材料的结构 | 第13-19页 |
| ·钙钛矿型铁电材料的性质 | 第15-17页 |
| ·铁电薄膜的微观结构缺陷 | 第17-19页 |
| ·铁电薄膜材料的研究进展 | 第19-21页 |
| ·论文研究目的和意义 | 第21-23页 |
| 第二章 钛酸钡/钛酸锶陶瓷薄膜的制备及主要研究手段 | 第23-37页 |
| ·引言 | 第23-24页 |
| ·钛酸钡(BTO)/钛酸锶(STO)薄膜的制备 | 第24-25页 |
| ·实验装置 | 第24页 |
| ·工作原理 | 第24-25页 |
| ·脉冲激光沉积的特点 | 第25页 |
| ·实验过程 | 第25页 |
| ·薄膜透射样品的制备 | 第25-30页 |
| ·实验材料 | 第26页 |
| ·实验仪器 | 第26-27页 |
| ·截面样品的制备 | 第27-30页 |
| ·平面样品的制备 | 第30页 |
| ·薄膜样品的表征方法 | 第30-36页 |
| ·透射电镜及其工作原理 | 第30-33页 |
| ·扫描电镜 | 第33-34页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第34-35页 |
| ·原子力显微镜 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 钛酸钡/钛酸锶多层薄膜微观结构及其生长方式研究 | 第37-50页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·薄膜基体的取向关系 | 第37-41页 |
| ·多层薄膜内部缺陷分析 | 第41-45页 |
| ·氧化镁与钛酸钡界面 | 第41-44页 |
| ·钛酸钡与钛酸锶界面 | 第44-45页 |
| ·薄膜生长方式的研究 | 第45-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 陶瓷薄膜的极化实验以及 HRTEM 和 HAADF 结合的相模拟 | 第50-62页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·腐蚀实验的操作 | 第51-52页 |
| ·实验原料及设备 | 第51页 |
| ·陶瓷样品的切割及清洗 | 第51-52页 |
| ·钛酸钡/钛酸锶陶瓷薄膜的腐蚀 | 第52页 |
| ·极化现象的SEM表征 | 第52-54页 |
| ·HRTEM 和 HAADF 结合对缺陷结构的相模拟 | 第54-60页 |
| ·钛酸钡/钛酸锶界面失配位错的原子结构模拟 | 第54-58页 |
| ·钛酸钡薄膜内部层错的原子结构模拟 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 附录 A(攻读学位期间发表的论文) | 第74页 |
