| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-16页 |
| ·课题来源及其发展情况 | 第10-11页 |
| ·大面积平面基片溅射真空镀膜过程 | 第11-13页 |
| ·前处理 | 第11页 |
| ·溅射镀膜 | 第11-12页 |
| ·后处理 | 第12-13页 |
| ·温度场分析的意义 | 第13-14页 |
| ·研究内容 | 第14-16页 |
| 第2章 大面积基片溅射镀膜设备及实验 | 第16-22页 |
| ·大面积平面基片磁控溅射真空镀膜设备介绍 | 第16-19页 |
| ·设备主要功能 | 第16页 |
| ·设备主要技术指标 | 第16-17页 |
| ·系统主要组成 | 第17-19页 |
| ·实验过程及结果 | 第19-22页 |
| 第3章 大面积玻璃基片溅射设备加热过程的有限元模拟 | 第22-68页 |
| ·大面积平面基片溅射镀膜设备有限元温度场模拟前处理 | 第22-26页 |
| ·大面积平面基片溅射镀膜设备有限元模型的建立 | 第22-23页 |
| ·大面积平面基片溅射镀膜设备有限元计算的基本假设 | 第23-24页 |
| ·初始条件及载荷处理 | 第24-26页 |
| ·溅射镀膜设备温度场的ANSYS分析 | 第26-31页 |
| ·大面积平面基片磁控溅射镀膜设备热分析预处理 | 第26-29页 |
| ·大面积平面基片溅射镀膜设备的辐射矩阵求解 | 第29-31页 |
| ·大面积平面基片溅射镀膜设备热分析的加载求解 | 第31页 |
| ·数值模拟结果及分析 | 第31-68页 |
| ·数值模拟 | 第31-60页 |
| ·模拟实验结果分析 | 第60-68页 |
| 第4章 大面积平面基片溅射镀膜设备加热系统优化设计 | 第68-80页 |
| ·优化模型的建立 | 第68-69页 |
| ·优化设计基本概念 | 第69-70页 |
| ·优化过程 | 第70-73页 |
| ·优化实例 | 第73-80页 |
| 第5章 结论与展望 | 第80-82页 |
| ·结论 | 第80页 |
| ·未来工作的展望 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
