| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| ·碳化硅材料特性及其应用 | 第10-11页 |
| ·碳化硅材料制备概况 | 第11-14页 |
| ·碳化硅反射镜烧制成型的研究现状 | 第14-15页 |
| ·真空高温烧结炉介绍及其发展概况 | 第15-17页 |
| ·真空高温烧结炉的主要用途 | 第15页 |
| ·真空高温烧结主体构造 | 第15-16页 |
| ·真空高温烧结炉的发展概况 | 第16-17页 |
| ·本课题的提出 | 第17-19页 |
| ·本课题研究的背景和意义 | 第17页 |
| ·主要研究内容 | 第17-18页 |
| ·课题的研究思路与研究方法 | 第18页 |
| ·分析流程 | 第18-19页 |
| 第2章 SiC镜坯烧结成型的主要影响因素 | 第19-24页 |
| ·碳化硅的烧结成型 | 第19-21页 |
| ·碳化硅烧结机理 | 第19页 |
| ·碳化硅反射镜烧制工艺过程 | 第19-21页 |
| ·炉内温度对碳化硅反射镜镜坯的影响 | 第21-23页 |
| ·热应力对碳化硅反射镜镜坯的影响 | 第23-24页 |
| 第3章 镜坯烧制过程温度场模拟及分析 | 第24-59页 |
| ·真空高温烧结炉的数值计算模型 | 第24-27页 |
| ·热传导、热对流与热辐射简介 | 第24-25页 |
| ·辐射换热模型 | 第25-27页 |
| ·真空高温烧结炉温度场数值仿真前处理 | 第27-37页 |
| ·物理模型的建立 | 第28-35页 |
| ·初始条件和边界条件 | 第35-36页 |
| ·源项处理 | 第36-37页 |
| ·计算流程 | 第37页 |
| ·真空高温烧结炉炉内温度场数值模拟及结果分析 | 第37-59页 |
| ·加热阶段碳化硅反射镜镜坯温度场的计算结果及分析 | 第38-49页 |
| ·冷却阶段碳化硅反射镜镜坯温度场的计算结果及分析 | 第49-53页 |
| ·炉体保温层尺寸与热工制度对碳化硅反射镜镜坯烧结的影响 | 第53-59页 |
| 第4章 镜坯烧制过程热应力模拟及分析 | 第59-75页 |
| ·研究思路 | 第59-60页 |
| ·碳化硅反射镜镜坯热应力数值计算介绍 | 第60-63页 |
| ·热弹性问题与热应力介绍 | 第60-61页 |
| ·圆柱形工件烧制过程中热应力的数值计算 | 第61-63页 |
| ·镜坯热应力数值模拟计算步骤 | 第63页 |
| ·碳化硅反射镜镜坯热应力场数值模拟结果分析 | 第63-75页 |
| ·加热阶段镜坯热应力场计算结果及分析 | 第63-69页 |
| ·冷却阶段镜坯热应力场计算结果及分析 | 第69-74页 |
| ·碳化硅反射镜镜坯热应力场分析总结 | 第74-75页 |
| 第5章 结论与展望 | 第75-77页 |
| ·结论 | 第75-76页 |
| ·展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 致谢 | 第81页 |