| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 序论 | 第10-16页 |
| ·纳米材料的概念 | 第10-11页 |
| ·纳米材料的发展历史 | 第11页 |
| ·纳米材料的基本特性 | 第11-14页 |
| ·量子尺寸效应 | 第11-12页 |
| ·小尺寸效应 | 第12页 |
| ·表面效应 | 第12-13页 |
| ·宏观量子隧道效应 | 第13页 |
| ·库仑堵塞与量子隧穿 | 第13-14页 |
| ·介电限域效应 | 第14页 |
| ·本论文研究内容 | 第14-15页 |
| 参考文献 | 第15-16页 |
| 第二章 纳米材料的合成及主要表征方法 | 第16-37页 |
| ·纳米材料的合成方法 | 第16-20页 |
| ·“自上而下”与“自下而上”方法 | 第16-17页 |
| ·模板合成纳米材料 | 第17-20页 |
| ·纳米材料的主要表征方法 | 第20-34页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第20-22页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第22-23页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第23-25页 |
| ·傅立叶变换光谱仪(Fourier transform infrared spectroscopy, FTIR) | 第25-29页 |
| ·显微拉曼光谱仪 | 第29-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-37页 |
| 第三章 多孔阳极氧化铝的进展 | 第37-60页 |
| ·铝阳极氧化的分类 | 第37-39页 |
| ·多孔阳极氧化铝结构模型与结构参数 | 第39-44页 |
| ·蜂窝状结构模型 | 第39-40页 |
| ·分层结构模型 | 第40-41页 |
| ·多孔阳极氧化铝结构参数 | 第41-42页 |
| ·多孔阳极氧化铝的成分组成 | 第42-44页 |
| ·多孔阳极氧化铝的生成机理 | 第44-48页 |
| ·离子的动态复合过程 | 第44-45页 |
| ·场助氧化模型 | 第45-46页 |
| ·临界电流密度模型 | 第46-47页 |
| ·体膨胀应力模型 | 第47-48页 |
| ·多孔氧化铝的应用 | 第48-55页 |
| ·多孔氧化铝在光学上的应用 | 第48-50页 |
| ·多孔氧化铝的在过滤分离上的应用 | 第50-51页 |
| ·多孔氧化铝在材料生长上的应用 | 第51-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 第四章 常规多孔阳极氧化铝的制备工艺与改良两步氧化法 | 第60-84页 |
| ·常规多孔氧化铝制备方法 | 第60-68页 |
| ·两步阳极氧化法 | 第60-61页 |
| ·高场阳极氧化法 | 第61-64页 |
| ·预制图案技术 | 第64-68页 |
| ·改良两步氧化法 | 第68-80页 |
| ·常规两步氧化法的缺陷与改进方案 | 第68-69页 |
| ·实验过程 | 第69-70页 |
| ·实验结果 | 第70-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-84页 |
| 第五章 氧化铝模板的光谱研究与分叉结构形成机理 | 第84-100页 |
| ·四层介质模型介绍 | 第84-90页 |
| ·以纳米硅薄膜为例介绍四层介质模型 | 第84-86页 |
| ·四层介质模型应用于多孔氧化铝模板 | 第86-90页 |
| ·氧化铝模板中分叉结构的形成机理 | 第90-97页 |
| ·影响氧化铝模板结构的因素 | 第90页 |
| ·氧化铝模板分叉结构 | 第90-93页 |
| ·氧化铝分叉结构的形成机理 | 第93-97页 |
| ·本章小结 | 第97-98页 |
| 参考文献 | 第98-100页 |
| 第六章 总结 | 第100-101页 |
| 致谢 | 第101-102页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第102-104页 |