金属光栅偏振器设计及其工艺仿真
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-9页 |
1 绪论 | 第9-19页 |
·引言 | 第9-10页 |
·金属光栅偏振器 | 第10-12页 |
·光栅的历史与应用 | 第10页 |
·亚波长光栅的理论分析方法 | 第10-12页 |
·选题依据及意义 | 第12-13页 |
·微纳光栅制作工艺国内外研究现状 | 第13-18页 |
·论文主要工作 | 第18-19页 |
2 纳米压印技术的介绍 | 第19-27页 |
·纳米压印技术基本原理 | 第19-22页 |
·压印模板 | 第20页 |
·压印过程 | 第20-21页 |
·图形转移 | 第21-22页 |
·纳米压印技术的分类 | 第22-27页 |
·微接触压印技术 | 第22-23页 |
·紫外光型纳米压印技术 | 第23页 |
·激光辅助直接压印技术 | 第23-24页 |
·光刻结合压印 | 第24-25页 |
·各种压印技术分类 | 第25-27页 |
3 亚波长金属光栅设计 | 第27-44页 |
·严格耦合波理论 | 第28-29页 |
·亚波长金属光栅的设计 | 第29-37页 |
·光栅材料和面型 | 第29-30页 |
·临界周期点分析 | 第30-33页 |
·order值的选取 | 第33页 |
·亚波长金属光栅设计 | 第33-37页 |
·亚波长金属光栅加工误差 | 第37-44页 |
·方向误差 | 第37-40页 |
·面形误差 | 第40-44页 |
4 纳米压印仿真 | 第44-62页 |
·热压印中聚合物填充过程的仿真分析 | 第44-51页 |
·建立模型 | 第44-46页 |
·模拟结果与分析 | 第46-51页 |
·降温过程仿真分析 | 第51-57页 |
·建立模型 | 第51-52页 |
·模拟结果与分析 | 第52-57页 |
·热压印中脱模过程的仿真分析 | 第57-62页 |
·建立模型 | 第57-59页 |
·模拟结果与分析 | 第59-62页 |
结论与展望 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-68页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第68-69页 |
致谢 | 第69-70页 |