| CONTENTS | 第1-8页 |
| 中文摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·有机场效应晶体管 | 第13-22页 |
| ·有机场效应晶体管简介 | 第13页 |
| ·有机场效应晶体管原理 | 第13-16页 |
| ·有机场效应晶体管材料 | 第16-19页 |
| ·有机场效应晶体管制备 | 第19-20页 |
| ·有机场效应晶体管应用 | 第20-22页 |
| ·本论文研究的背景和主要工作 | 第22-25页 |
| ·有机场效应晶体管存在的问题及解决方法 | 第22-23页 |
| ·本论文的主要工作 | 第23-25页 |
| 参考文献 | 第25-28页 |
| 第二章 酞菁铜器件的制备与测试 | 第28-56页 |
| ·酞菁铜简介 | 第28-30页 |
| ·酞菁铜薄膜器件的制备 | 第30-38页 |
| ·酞菁铜薄膜器件的制备设备 | 第30-35页 |
| ·薄膜器件的制备过程 | 第35-38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-53页 |
| ·器件的测试设备 | 第38-40页 |
| ·器件的测试方法 | 第40-43页 |
| ·薄膜器件的测试结果与讨论 | 第43-53页 |
| ·本章总结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第三章 联苯乙烯类化合物的合成、场效应器件的制备及性能测试 | 第56-74页 |
| ·联苯乙烯类化合物的合成与表征 | 第56-59页 |
| ·三种联苯乙烯类化合物的合成及表征 | 第56-57页 |
| ·三种联苯乙烯类化合物的光学性能 | 第57-59页 |
| ·薄膜场效应器件的制备 | 第59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-72页 |
| ·温度对薄膜器件性能的影响 | 第60-64页 |
| ·衬底处理对薄膜器件性能的影响 | 第64-71页 |
| ·三种化合物的器件性能及稳定性比较 | 第71-72页 |
| ·本章总结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-74页 |
| 第四章 总结和展望 | 第74-78页 |
| ·全文总结 | 第74-77页 |
| ·有待进一步开展的工作 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第79-80页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第80页 |