NiFe和NiFe-Cu-NiFe巨磁阻抗薄膜的制备与性能
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| ·课题背景 | 第10页 |
| ·GMI 效应的研究现状 | 第10-16页 |
| ·研究进展 | 第10-12页 |
| ·三明治结构GMI 薄膜的制备技术 | 第12-13页 |
| ·三明治结构GMI 薄膜的理论研究 | 第13-15页 |
| ·三明治结构GMI 薄膜的应用及展望 | 第15-16页 |
| ·本文主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 试验材料及试验方法 | 第18-23页 |
| ·薄膜制备设备及试验材料 | 第18-19页 |
| ·试验材料 | 第18页 |
| ·薄膜制备设备 | 第18页 |
| ·热处理设备 | 第18页 |
| ·巨磁阻抗性能测试设备 | 第18-19页 |
| ·薄膜磁控溅射工艺参数 | 第19-21页 |
| ·研究方法 | 第21-23页 |
| ·掠入射X 射线衍射分析 | 第21页 |
| ·小角X 射线散射分析 | 第21页 |
| ·薄膜厚度扫描电子显微镜观察 | 第21页 |
| ·磁滞回线测量 | 第21页 |
| ·巨磁阻抗性能测量 | 第21-23页 |
| 第3章 NiFe 薄膜的相结构及厚度 | 第23-33页 |
| ·前言 | 第23页 |
| ·薄膜物相分析 | 第23-28页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第28-31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第4章 薄膜织构与残余应力 | 第33-45页 |
| ·前言 | 第33页 |
| ·织构 | 第33-38页 |
| ·薄膜织构的掠入射XRD 分析方法 | 第33-37页 |
| ·薄膜织构测量 | 第37-38页 |
| ·薄膜残余应力 | 第38-44页 |
| ·薄膜残余应力的掠入射测量方法 | 第38-39页 |
| ·薄膜残余应力测量 | 第39-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第5章 薄膜磁性能及巨磁阻抗性能 | 第45-57页 |
| ·薄膜磁性能 | 第45-51页 |
| ·薄膜GMI 性能 | 第51-55页 |
| ·巨磁阻抗效应 | 第51-52页 |
| ·巨磁阻抗性能测量 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
