溶胶—凝胶法制备PZT纳米点薄膜研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-30页 |
| ·前言 | 第9-10页 |
| ·薄膜结构 | 第10-13页 |
| ·无定形结构 | 第10-11页 |
| ·多晶结构 | 第11页 |
| ·纤维结构 | 第11-12页 |
| ·单晶结构 | 第12-13页 |
| ·薄膜新结构 | 第13页 |
| ·铁电薄膜的性能 | 第13-15页 |
| ·自发极化 | 第13-14页 |
| ·铁电畴 | 第14页 |
| ·居里点 | 第14-15页 |
| ·介电常数 | 第15页 |
| ·热释电效应 | 第15页 |
| ·压电效应 | 第15页 |
| ·铁电薄膜的应用 | 第15-19页 |
| ·铁电随机存取存储器 | 第15-16页 |
| ·动态随机存储器 | 第16页 |
| ·铁电场效应晶体管 | 第16-17页 |
| ·声表面波器件 | 第17-18页 |
| ·微机电系统器件 | 第18页 |
| ·红外探测与成像器件 | 第18页 |
| ·其他光学器件 | 第18-19页 |
| ·PZT晶体结构和性能 | 第19-21页 |
| ·PZT晶体结构 | 第19-20页 |
| ·PZT相图分析 | 第20-21页 |
| ·PZT薄膜的制备方法 | 第21-28页 |
| ·Sol-Gel法 | 第21-24页 |
| ·真空蒸发法 | 第24页 |
| ·溅射法 | 第24-25页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第25-26页 |
| ·化学气相沉积 | 第26-27页 |
| ·分子束外延法 | 第27-28页 |
| ·选题的目的和意义 | 第28-30页 |
| 第二章 实验 | 第30-37页 |
| ·实验原料与器材 | 第30-31页 |
| ·实验原料 | 第30页 |
| ·实验设备 | 第30-31页 |
| ·样品制备 | 第31-35页 |
| ·基板的清洗工艺 | 第31-32页 |
| ·PZT溶胶制备 | 第32页 |
| ·PT溶胶的制备 | 第32-33页 |
| ·PZT/PT复合纳米点薄膜的制备 | 第33-34页 |
| ·制备PZT纳米点薄膜的流程图 | 第34页 |
| ·水热法在基板上生长PZT | 第34-35页 |
| ·测试方法 | 第35-37页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第35页 |
| ·场发射扫描电子显微镜(SEM) | 第35-36页 |
| ·傅立叶红外吸收光谱(FT-IR) | 第36页 |
| ·差热分析(DTA) | 第36-37页 |
| 第三章 稳定化PZT先驱体溶胶及PZT凝成研究 | 第37-46页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·稳定化PZT先驱体溶胶及其影响因素分析 | 第38-41页 |
| ·PZT先驱溶胶溶液产生沉淀的分析 | 第38-39页 |
| ·温度对PZT溶胶溶液稳定性的影响 | 第39-40页 |
| ·pH值对PZT溶胶溶液稳定性的影响 | 第40-41页 |
| ·凝成钙钛矿结构PZT的热处理分析 | 第41-44页 |
| ·PZT干凝胶的差热分析 | 第42-43页 |
| ·钙钛矿结构PZT晶化的热处理分析 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 第四章 PZT纳米点薄膜的表征 | 第46-64页 |
| ·引言 | 第46-47页 |
| ·Si基板上生长PZT纳米点薄膜 | 第47-55页 |
| ·PZT/Si薄膜的XRD分析 | 第47-48页 |
| ·PZT/PT/Si薄膜结构的XRD分析 | 第48-51页 |
| ·PZT薄膜的表面形貌分析 | 第51-55页 |
| ·Ti基板上生长PZT纳米点薄膜 | 第55-60页 |
| ·PZT/Ti结构的XRD分析 | 第56-57页 |
| ·PZT/Ti结构中PZT薄膜的表面形貌分析 | 第57-58页 |
| ·PVP添加剂对PZT表面形貌的影响 | 第58-60页 |
| ·水热法在基板生长PZT纳米点研究 | 第60-62页 |
| ·小结 | 第62-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 研究生期间发表得学术论文 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
