铝硼硅系玻璃结构与性能的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-11页 |
| 第二章 文献综述 | 第11-32页 |
| ·平板显示的发展 | 第11-13页 |
| ·平板显示玻璃的研究状况 | 第13-18页 |
| ·LCD玻璃基板的发展状况 | 第13-16页 |
| ·PDP玻璃基板的发展状况 | 第16-18页 |
| ·铝硼硅酸盐玻璃 | 第18-24页 |
| ·铝硼硅酸盐玻璃的组成 | 第18-19页 |
| ·铝硼硅酸盐玻璃的结构 | 第19-21页 |
| ·铝硼硅酸盐玻璃的性能 | 第21-24页 |
| ·玻璃结构测试方法 | 第24-30页 |
| ·光谱实验方法 | 第24-29页 |
| ·衍射实验方法 | 第29-30页 |
| ·选题角度 | 第30-32页 |
| 第三章 实验过程 | 第32-37页 |
| ·实验原料与配料 | 第32-33页 |
| ·实验设备 | 第33页 |
| ·制备过程 | 第33-34页 |
| ·测试方法 | 第34-37页 |
| ·魔角自旋核磁共振谱(MAS NMR) | 第34-35页 |
| ·傅立叶转化红外光谱(FTIR) | 第35页 |
| ·热膨胀性能测试 | 第35页 |
| ·密度性能测试 | 第35-36页 |
| ·化学稳定性测试 | 第36页 |
| ·介电性能测试 | 第36-37页 |
| 第四章 铝硼硅玻璃结构的研究 | 第37-54页 |
| ·铝硼硅玻璃的FTIR研究 | 第37-47页 |
| ·网络形成体和中间体因素 | 第37-43页 |
| ·SiO_2/B_2O_3的影响 | 第37-40页 |
| ·Al_2O_3/B_2O_3的影响 | 第40-42页 |
| ·ⅣB族氧化物的影响 | 第42-43页 |
| ·网络修饰体因素 | 第43-47页 |
| ·碱土族氧化物的影响 | 第43-46页 |
| ·ⅡB过渡族氧化物的影响 | 第46-47页 |
| ·铝硼硅玻璃的MAS NMR研究 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-54页 |
| 第五章 铝硼硅玻璃性能的研究 | 第54-77页 |
| ·热膨胀性能的研究 | 第54-56页 |
| ·密度性能的研究 | 第56-59页 |
| ·网络形成体和中间体的影响 | 第56-58页 |
| ·网络修饰体的影响 | 第58-59页 |
| ·化学稳定性能的研究 | 第59-71页 |
| ·结构对化学稳定性的影响 | 第59-66页 |
| ·氧化物酸碱性对化学稳定性的影响 | 第66-71页 |
| ·介电性能的研究 | 第71-75页 |
| ·Al_2O_3/B_2O_3的影响 | 第71-72页 |
| ·碱土族阳离子的影响 | 第72-74页 |
| ·过渡族阳离子的影响 | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 第六章 结论与展望 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-86页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
