磁控溅射Cu-Fe薄膜的结构表征与性能
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| ·课题来源及研究的目的和意义 | 第9页 |
| ·GMR 效应应用概述 | 第9-11页 |
| ·应用概述 | 第9-10页 |
| ·工作原理 | 第10-11页 |
| ·GMR 的研究进展 | 第11-20页 |
| ·颗粒膜巨磁阻效应的影响因素 | 第11-14页 |
| ·Fe_xCu_(1-x)纳米颗粒膜I-R 特性 | 第14-16页 |
| ·Fe 含量和粒径对Fe/Cu 颗粒膜磁性的影响 | 第16-17页 |
| ·Fe-Cu 颗粒膜的巨磁阻效应 | 第17-19页 |
| ·Fe 含量对Fe-Cu 磁滞回线的影响 | 第19-20页 |
| ·本课题主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 试验材料及试验方法 | 第21-26页 |
| ·薄膜制备设备及实验材料 | 第21-22页 |
| ·试验材料 | 第21页 |
| ·薄膜制备设备 | 第21页 |
| ·磁场热处理设备 | 第21页 |
| ·磁阻性能测试设备 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射Cu-Fe 薄膜的工艺参数 | 第22-23页 |
| ·研究方法 | 第23-26页 |
| ·掠入射X 射线衍射分析 | 第23页 |
| ·小角X 射线散射分析 | 第23-24页 |
| ·表面粗糙度原子力显微镜观察 | 第24页 |
| ·磁滞回线测量 | 第24页 |
| ·磁阻性能测量 | 第24-26页 |
| 第3章 薄膜的相组成及表面形态 | 第26-43页 |
| ·前言 | 第26页 |
| ·薄膜成分 | 第26-28页 |
| ·无偏压溅射薄膜物相分析 | 第28-31页 |
| ·偏压下溅射薄膜物象分析 | 第31-34页 |
| ·沉积态薄膜物相分析 | 第31-33页 |
| ·真空磁场热处理薄膜物相分析 | 第33-34页 |
| ·薄膜厚度分析 | 第34-36页 |
| ·薄膜表面AFM 分析 | 第36-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 薄膜织构与残余应力 | 第43-56页 |
| ·前言 | 第43页 |
| ·织构 | 第43-49页 |
| ·薄膜织构的掠入射XRD 分析方法 | 第43-47页 |
| ·沉积态薄膜织构 | 第47-48页 |
| ·磁场热处理薄膜织构 | 第48-49页 |
| ·薄膜残余应力 | 第49-54页 |
| ·薄膜残余应力的掠入射测量方法 | 第49-51页 |
| ·薄膜残余应力测量 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第5章 薄膜磁性能及巨磁阻性能 | 第56-63页 |
| ·薄膜磁滞回线 | 第56-57页 |
| ·薄膜GMR 性能 | 第57-62页 |
| ·巨磁电阻效应 | 第57-58页 |
| ·巨磁阻性能测量 | 第58-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 哈尔滨工业大学硕士学位论文原创性声明 | 第67页 |
| 哈尔滨工业大学硕士学位论文使用授权书 | 第67页 |
| 哈尔滨工业大学硕士学位涉密论文管理 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
