| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第1章 引言 | 第7-13页 |
| ·FED 技术简介 | 第7-8页 |
| ·SED 基本结构 | 第8-10页 |
| ·SED 器件发展简史 | 第10-12页 |
| ·论文的主要内容 | 第12-13页 |
| 第2章 基于金属氧化物不连续薄膜的DF-SED 阴极 | 第13-19页 |
| ·基于金属氧化物不连续薄膜的DF-SED 阴极结构 | 第13-14页 |
| ·SED 发射机理 | 第14-15页 |
| ·多次电子散射模型 | 第14-15页 |
| ·狭缝场发射模型 | 第15页 |
| ·起伏层和传导层材料的选择 | 第15-18页 |
| ·Bi_2O_3 薄膜 | 第16页 |
| ·SnO_x 薄膜 | 第16-17页 |
| ·阳极氧化的Al_2O_3 薄膜 | 第17-18页 |
| ·热氧化的Al_2O_3 薄膜 | 第18页 |
| ·小结 | 第18-19页 |
| 第3章 DF-SED 阴极阵列的工艺过程 | 第19-30页 |
| ·工艺综述 | 第19页 |
| ·基片处理 | 第19-20页 |
| ·列电极的制作 | 第20-22页 |
| ·绝缘层的制作 | 第22-23页 |
| ·行电极的制作 | 第23-24页 |
| ·绝缘层的开孔 | 第24-26页 |
| ·接触电极的制作 | 第26-27页 |
| ·发射膜的制作 | 第27-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 第4章 DF-SED 阴极阵列的测试 | 第30-34页 |
| ·电极的测试 | 第30-31页 |
| ·DF-SED 阴极阵列发射测试 | 第31-34页 |
| 第5章 论文工作总结 | 第34-36页 |
| ·论文总结 | 第34页 |
| ·对今后工作建议 | 第34页 |
| ·个人工作体会 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-38页 |
| 致谢 | 第38-39页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第39页 |