六方氮化硼（h-BN）前驱体的合成研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| ·前言 | 第12页 |
| ·氮化硼 | 第12-18页 |
| ·氮化硼的结构，性质及应用 | 第12-14页 |
| ·合成氮化硼的几种方法介绍 | 第14-18页 |
| ·三氯环硼氮烷 | 第18-20页 |
| ·简介 | 第18页 |
| ·合成方法 | 第18-20页 |
| 第二章 实验部分 | 第20-27页 |
| ·试剂与仪器 | 第20-22页 |
| ·主要设备和玻璃仪器 | 第20-21页 |
| ·主要化学试剂 | 第21-22页 |
| ·合成 | 第22-24页 |
| ·反应基本原理 | 第22页 |
| ·反应模式 | 第22页 |
| ·反应过程 | 第22-24页 |
| ·提纯 | 第24页 |
| ·取代前驱体的合成 | 第24-25页 |
| ·二甲胺甲苯溶液的制备 | 第24页 |
| ·烷基胺硼氮烷的合成 | 第24-25页 |
| ·实验中应注意的问题 | 第25-27页 |
| ·防水问题 | 第25-26页 |
| ·防漏气问题 | 第26页 |
| ·安全问题 | 第26-27页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第27-57页 |
| ·红外光谱分析 | 第27-30页 |
| ·红外光谱基本知识介绍 | 第27页 |
| ·红外光谱谱图分析 | 第27-30页 |
| ·液相色谱分析 | 第30-33页 |
| ·液相色谱基本知识介绍 | 第30-31页 |
| ·液相色谱谱图分析 | 第31-33页 |
| ·质谱分析 | 第33-34页 |
| ·质谱基本知识介绍 | 第33-34页 |
| ·质谱谱图分析 | 第34页 |
| ·核磁共振谱图(NMR)分析 | 第34-37页 |
| ·NMR基本知识介绍 | 第34页 |
| ·NMR谱图分析 | 第34-37页 |
| ·TCB核磁共振图谱分析 | 第34-36页 |
| ·取代产物核磁共振图谱分析 | 第36-37页 |
| ·单晶衍射分析 | 第37-41页 |
| ·CCD单晶衍射基本知识介绍 | 第37-38页 |
| ·TCB单晶衍射分析 | 第38-41页 |
| ·合成反应宏观动力学分析 | 第41-42页 |
| ·工艺细节分析 | 第42-51页 |
| ·惰性气体置换空气分析 | 第44-46页 |
| ·泵和流量计的选用 | 第46-48页 |
| ·催化剂和反应时间对合成TCB的影响 | 第48-49页 |
| ·TCB提纯的精馏柱理论塔板数的计算 | 第49-51页 |
| ·取代反应机理讨论 | 第51-57页 |
| ·计算原理 | 第51-52页 |
| ·计算细节 | 第52页 |
| ·结果分析 | 第52-57页 |
| 第四章 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第62-63页 |
| 作者与导师简介 | 第63-64页 |
