| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 序 | 第9-12页 |
| 1 引言 | 第12-14页 |
| 2 绪论 | 第14-28页 |
| ·选题背景 | 第14-19页 |
| ·盾构施工技术发展简史及我国盾构机技术的发展现状 | 第14-15页 |
| ·盾构施工技术基本原理 | 第15-17页 |
| ·盾构刀具的失效分析 | 第17-18页 |
| ·国内盾构刀具面临的问题 | 第18-19页 |
| ·等离子体的定义及特征 | 第19-20页 |
| ·脉冲高能量密度等离子体薄膜沉积技术简介 | 第20-25页 |
| ·脉冲高能量密度等离子体的工作原理及特点 | 第20-21页 |
| ·目前常用硬质耐磨薄膜沉积技术比较 | 第21-22页 |
| ·脉冲高能量密度等离子体薄膜沉积技术应用概述 | 第22-25页 |
| ·等离子熔敷制备先进复合材料涂层技术简介 | 第25-27页 |
| ·等离子熔敷工作原理简介 | 第25-26页 |
| ·等离子熔敷制备先进复合材料涂层技术特点 | 第26页 |
| ·等离子熔敷与激光熔敷技术比较 | 第26-27页 |
| ·本文的选题依据及意义 | 第27页 |
| ·本文的课题来源 | 第27-28页 |
| 3 试验方法 | 第28-36页 |
| ·试验材料 | 第28-29页 |
| ·基体材料 | 第28页 |
| ·薄膜及涂层材料 | 第28-29页 |
| ·薄膜及涂层制备试验 | 第29-32页 |
| ·脉冲高能量密度等离子体薄膜沉积试验 | 第29-31页 |
| ·等离子熔敷制备复合材料涂层试验 | 第31-32页 |
| ·薄膜及涂层的显微组织分析及性能测试 | 第32-36页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第32页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第32页 |
| ·俄歇电子能谱(AES)分析 | 第32页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第32-33页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第33页 |
| ·纳米硬度测试 | 第33页 |
| ·显微硬度测试 | 第33页 |
| ·室温干滑动磨损试验 | 第33-34页 |
| ·电化学腐蚀试验 | 第34-36页 |
| 4 PHEDP制备Ta(C)N薄膜组织、性能及工程应用 | 第36-54页 |
| ·Ta(C)N薄膜的晶体结构及化学组成分析 | 第36-41页 |
| ·Ta(C)N薄膜的晶体结构 | 第36-37页 |
| ·Ta(C)N薄膜化学成分组成 | 第37-41页 |
| ·Ta(C)N薄膜元素深度分布 | 第41-43页 |
| ·Ta(C)N薄膜的表面形貌 | 第43-47页 |
| ·Ta(C)N薄膜的纳米力学性能 | 第47-49页 |
| ·Ta(C)N薄膜干滑动摩擦磨损性能 | 第49-50页 |
| ·工程应用 | 第50-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 5 等离子熔敷耐磨复合材料涂层组织、性能及工程应用 | 第54-62页 |
| ·等离子熔敷耐磨复合材料涂层显微组织分析 | 第54-56页 |
| ·等离子熔敷耐磨复合材料涂层显微硬度测试 | 第56-57页 |
| ·等离子熔敷耐磨复合材料涂层摩擦磨损性能 | 第57-59页 |
| ·等离子熔敷耐磨复合材料涂层耐腐蚀性能 | 第59-60页 |
| ·工程应用 | 第60-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 6 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 附录A | 第66-67页 |
| 附录B | 第67-68页 |
| 作者简历 | 第68-70页 |
| 学位论文数据集 | 第70页 |