软磁铁氧体薄膜磁性能的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| §1-1 薄膜电感的发展 | 第13-17页 |
| ·单面薄膜电感 | 第13-16页 |
| ·板上制作的双面耦合薄膜电感 | 第16-17页 |
| §1-2 薄膜电感器的应用 | 第17-18页 |
| §1-3 薄膜电感用薄膜材料 | 第18-22页 |
| §1-4 尖晶石型铁氧体 | 第22-27页 |
| ·尖晶石型铁氧体分子结构 | 第23-24页 |
| ·尖晶石铁氧体磁性 | 第24-25页 |
| ·含Zn复合铁氧体磁性 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-29页 |
| 第二章 薄膜制备及性能测试 | 第29-38页 |
| §2-1 薄膜制备 | 第29-34页 |
| ·薄膜制备方法 | 第29-30页 |
| ·溅射原理 | 第30-31页 |
| ·薄膜生长过程 | 第31页 |
| ·基片的选择及清洗 | 第31-32页 |
| ·溅射用靶的制备 | 第32页 |
| ·薄膜的制备 | 第32-34页 |
| §2-2 薄膜性能测量 | 第34-37页 |
| ·薄膜厚度,薄膜面积的测量 | 第34页 |
| ·薄膜结构分析 | 第34-35页 |
| ·薄膜磁性的测量 | 第35-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第三章 Mn-Zn铁氧体薄膜性能研究 | 第38-48页 |
| §3-1 Mn-Zn铁氧体薄膜制备 | 第38-39页 |
| §3-2 影响Mn-Zn铁氧体薄膜性能的主要因素 | 第39-46页 |
| ·薄膜的单元层厚度 | 第40页 |
| ·溅射氧分压 | 第40-41页 |
| ·热处理真空度控制 | 第41-42页 |
| ·热处理温度控制 | 第42-43页 |
| ·薄膜厚度 | 第43-44页 |
| ·Zn含量对性能的影响 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 第四章 Ni-Zn铁氧体薄膜的性能 | 第48-59页 |
| §4-1 成分对薄膜性能的影响 | 第48-51页 |
| §4-2 制备过程对薄膜性能的影响 | 第51-56页 |
| ·薄膜单元层厚度 | 第51页 |
| ·氧分压对薄膜性能的影响 | 第51-52页 |
| ·薄膜厚度对性能的影响 | 第52页 |
| ·热处理温度对薄膜性能的影响 | 第52-56页 |
| §4-3 衬底层对Ni-Zn铁氧体薄膜性能的影响 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 第五章 结论 | 第59-60页 |
| 1. Mn-Zn铁氧体薄膜 | 第59页 |
| 2. Ni-Zn铁氧体薄膜 | 第59-60页 |
| 第六章 今后的工作开展 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
