| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第一部分 绪论 | 第11-41页 |
| 1 引言 | 第11-12页 |
| 2 常规汞膜电极和化学修饰型复合汞膜电极 | 第12-21页 |
| ·常规汞膜电极概述 | 第12-16页 |
| ·化学修饰型复合汞膜电极产生的历史、类型、制备及应用 | 第16-20页 |
| ·汞膜电极的应用前景及发展趋势 | 第20-21页 |
| 3 普鲁士蓝及其复合型化学修饰电极 | 第21-26页 |
| ·普鲁士蓝及类普鲁士蓝修饰电极的结构、性质 | 第21-23页 |
| ·普鲁士蓝及类普鲁士蓝修饰电极的制备 | 第23-24页 |
| ·普鲁士蓝修饰电极在电分析中的应用 | 第24-26页 |
| ·普鲁士蓝及其类似物薄膜修饰电极的发展的趋向及其展望 | 第26页 |
| 4 本论文立题依据 | 第26-28页 |
| 5 本论文主要的工作内容 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-41页 |
| 第二部分 铕离子掺杂类普鲁士蓝复合汞膜电极的制备及其性能研究 | 第41-59页 |
| 摘要 | 第41页 |
| 1 引言 | 第41-42页 |
| 2 实验部分 | 第42-45页 |
| ·仪器和试剂 | 第42-43页 |
| ·裸玻碳电极的预处理 | 第43页 |
| ·铕离子掺杂类普鲁士蓝内膜修饰电极的制备 | 第43-44页 |
| ·铕离子掺杂类普鲁士蓝复合汞膜电极的制备 | 第44页 |
| ·伏安性能实验方法 | 第44-45页 |
| 3 结果与讨论 | 第45-55页 |
| ·复合汞膜电极的镀汞过程实验条件的优化 | 第45-47页 |
| ·铕离子掺杂类普鲁士蓝化学修饰电极的制备过程试验条件的优化及其电化学伏安特性 | 第47-52页 |
| ·铕离子掺杂类普鲁士蓝复合汞膜电极的制备过程试验条件的优化 | 第52-55页 |
| 4 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 第三部分 铕离子掺杂类普鲁士蓝复合汞膜电极的应用研究 | 第59-84页 |
| 第一章 铕离子掺杂类普鲁士蓝复合汞膜电极上阳极溶出伏安法测定环境水样中痕量铅的研究 | 第59-74页 |
| 摘要 | 第59页 |
| 1 引言 | 第59-60页 |
| 2 实验部分 | 第60-62页 |
| ·仪器及试剂 | 第60-61页 |
| ·铕离子掺杂类普鲁士蓝复合汞膜电极的制备 | 第61页 |
| ·实验原理 | 第61-62页 |
| 3 结果与讨论 | 第62-70页 |
| ·支持电解质及浓度的影响 | 第62-63页 |
| ·富集电位和时间的影响 | 第63-64页 |
| ·静息参数的影响 | 第64-65页 |
| ·溶出扫描参数的影响 | 第65-66页 |
| ·清洗电位和清洗时间的影响 | 第66页 |
| ·内层PB-Eu修饰膜、汞膜厚度的影响以及最佳汞膜厚度的确定 | 第66-67页 |
| ·共存离子的影响 | 第67页 |
| ·重现性实验 | 第67-68页 |
| ·线性范围和回收率的测定 | 第68-69页 |
| ·实际水样中Pb~(2+)的测定及回收率 | 第69-70页 |
| 4 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 第二章 铕离子掺杂类普鲁士蓝复合汞膜电极上替硝唑的方波伏安法测定 | 第74-84页 |
| 摘要 | 第74页 |
| 1 引言 | 第74-75页 |
| 2 实验部分 | 第75页 |
| ·仪器与试剂 | 第75页 |
| ·铕离子掺杂类普鲁士蓝复合汞膜电极的制备 | 第75页 |
| ·实验方法 | 第75页 |
| 3 结果与讨论 | 第75-80页 |
| ·实验条件的优化 | 第75-79页 |
| ·线性范围和检测限 | 第79页 |
| ·电极的稳定性及重现性 | 第79-80页 |
| ·干扰实验 | 第80页 |
| ·实际样品分析 | 第80页 |
| 4 结论 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-84页 |
| 发表论文目录 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
