850nm高亮度半导体激光器腔面膜的设计与制备
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-9页 |
| §1.1 引言 | 第7页 |
| §1.2 高亮度半导体激光器面临的主要问题 | 第7-8页 |
| §1.3 论文研究目的和内容 | 第8-9页 |
| 第二章 半导体激光器的物理基础及基本结构 | 第9-18页 |
| §2.1 光的自发发射、受激发射与受激吸收 | 第9-13页 |
| §2.2 激光器的发光原理 | 第13-15页 |
| ·粒子数反转及其能级系统 | 第13-15页 |
| ·激光器运转的物理过程 | 第15页 |
| §2.3 激光器的基本结构 | 第15-18页 |
| ·光学谐振腔的作用 | 第16页 |
| ·光学谐振腔中的腔面膜 | 第16-18页 |
| 第三章 腔面膜反射率数值优化 | 第18-27页 |
| §3.1 灾变性光学损伤以及几种克服方法 | 第18-19页 |
| ·灾变性光学损伤 | 第18页 |
| ·克服光学灾变的方法 | 第18-19页 |
| §3.2 大光腔外延结构 | 第19-20页 |
| §3.3 腔面膜设计 | 第20-27页 |
| ·理论分析 | 第20-21页 |
| ·腔面反射率的优化 | 第21-27页 |
| 第四章 光学薄膜理论基础 | 第27-33页 |
| §4.1 单层膜的反射率 | 第27-29页 |
| §4.2 多层膜的反射率 | 第29-33页 |
| 第五章 膜系设计 | 第33-43页 |
| §5.1 膜料的选取 | 第33-35页 |
| §5.2 膜系设计 | 第35-43页 |
| ·增透膜的设计 | 第36-40页 |
| ·高反射膜的设计 | 第40-43页 |
| 第六章 工艺制备 | 第43-55页 |
| §6.1 设备介绍 | 第43-48页 |
| §6.2 制备工艺 | 第48-52页 |
| ·主要工艺因素分析 | 第48-50页 |
| ·实验步骤 | 第50-51页 |
| ·注意事项 | 第51-52页 |
| §6.3 测试结果及分析 | 第52-55页 |
| ·测试结果 | 第52-53页 |
| ·结果分析 | 第53-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
