钛合金微弧氧化表面改性耐磨性研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-7页 |
| 1.绪论 | 第7-23页 |
| ·钛合金在微弧氧化表面改性耐磨性的目的 | 第7-9页 |
| ·微弧氧化技术的研究历史及现状 | 第9-10页 |
| ·微弧氧化技术的基本原理 | 第10-17页 |
| ·微弧氧化的物理化学过程 | 第10-12页 |
| ·微弧氧化的电击穿机理 | 第12-16页 |
| ·微弧氧化的工艺方法 | 第16-17页 |
| ·高性能陶瓷特点 | 第17-18页 |
| ·影响微弧氧化膜层制备的因素 | 第18-20页 |
| ·钛及其合金微弧氧化的研究现状 | 第20-21页 |
| ·本课题研究目的 | 第21页 |
| ·本课题研究内容及技术路线 | 第21-23页 |
| ·本课题研究内容 | 第21-22页 |
| ·本课题研究的技术路线 | 第22-23页 |
| 2.实验设备与实验方法 | 第23-29页 |
| ·微弧氧化处理装置 | 第23-24页 |
| ·钛及钛合金微弧氧化膜层的制备 | 第24页 |
| ·试验材料 | 第24页 |
| ·电解液的配制 | 第24页 |
| ·微弧氧化的工艺流程 | 第24页 |
| ·实验现象及分析 | 第24-28页 |
| ·在不同介质中的实验现象 | 第24-25页 |
| ·在不同介质中的放电现象原因分析 | 第25-27页 |
| ·在不同电压下电流的变化 | 第27-28页 |
| ·分析测试方法 | 第28-29页 |
| ·表面与截面形貌分析分析 | 第28页 |
| ·耐磨性能试验 | 第28-29页 |
| 3.不同参数对不同钛合金微弧氧化膜层特性研究 | 第29-41页 |
| ·电参数对膜层结构成分的影响 | 第29-34页 |
| ·作用电压对膜层形貌的影响 | 第29-33页 |
| ·电压对膜层成分的影 | 第33-34页 |
| ·不同作用电压对膜层厚度的影响 | 第34页 |
| ·作用时间对膜层结构的影响 | 第34-39页 |
| ·作用时间对膜层表面形貌的影响 | 第34-37页 |
| ·作用时间对膜层厚度的影响 | 第37-39页 |
| ·作用时间对膜层成分的影响 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 4.钛合金微弧氧化膜层耐磨性能的研究 | 第41-50页 |
| ·耐磨性能试验试验 | 第41-45页 |
| ·试验结果讨论 | 第45-49页 |
| ·本章结论 | 第49-50页 |
| 5.钛合金微弧氧化工业应用工艺方案设计 | 第50-55页 |
| ·项目简介 | 第50页 |
| ·工艺参数的确定 | 第50-53页 |
| ·电解液的确定 | 第50-51页 |
| ·电流密度确定 | 第51-52页 |
| ·微弧氧化工作电压 | 第52-53页 |
| ·膜层厚度的确定 | 第53页 |
| ·处理时间的确定 | 第53页 |
| ·设备及工装 | 第53-54页 |
| ·对微弧氧化电源的要求 | 第53页 |
| ·处理工装的设计 | 第53-54页 |
| ·工艺路线 | 第54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 6 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
