ABO3型铁电薄膜晶化行为与晶化动力学的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| ·研究背景 | 第12-13页 |
| ·ABO_3型铁电薄膜晶化研究的国内外进展 | 第13-20页 |
| ·ABO_3型铁电薄膜晶化实验研究进展 | 第13-14页 |
| ·ABO_3型铁电材料计算机模拟研究进展 | 第14-18页 |
| ·晶化理论研究进展 | 第18-20页 |
| ·本文的选题及研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 ABO_3型铁电薄膜势函数第一原理模拟 | 第22-42页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·第一原理模拟计算基础 | 第22-26页 |
| ·晶体中基于密度泛函理论的单电子近似 | 第23-25页 |
| ·晶体特性的计算原理与方法概述 | 第25-26页 |
| ·STO第一原理模拟 | 第26-36页 |
| ·计算模型方法 | 第26-27页 |
| ·能带结构 | 第27-29页 |
| ·能态密度(DOS)分析 | 第29-34页 |
| ·电子云密度分析 | 第34-36页 |
| ·BTO第一原理模拟 | 第36-38页 |
| ·能带结构 | 第36-37页 |
| ·能态密度分析 | 第37-38页 |
| ·势函数及参数的确定 | 第38-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章 STO薄膜形核的分子动力学模拟 | 第42-68页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·分子动力学模拟基础 | 第42-55页 |
| ·概述 | 第42-43页 |
| ·分子动力学模拟 | 第43-47页 |
| ·势函数 | 第47-50页 |
| ·性能计算 | 第50-53页 |
| ·结构分析方法 | 第53-55页 |
| ·STO熔化的模拟 | 第55-59页 |
| ·STO的熔点 | 第55-57页 |
| ·STO熔化过程中结构的变化 | 第57-59页 |
| ·原子扩散系数分析 | 第59页 |
| ·STO淬火的模拟 | 第59-63页 |
| ·淬火过程的可视化图像 | 第59-60页 |
| ·非晶态偏径向函数分布(RDF) | 第60-61页 |
| ·键角与配位数分析 | 第61-63页 |
| ·非晶体STO晶化的模拟 | 第63-67页 |
| ·形核规律 | 第63-64页 |
| ·升温速率对形核的影响 | 第64-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第四章 ABO_3型铁电薄膜晶化动力学模型 | 第68-80页 |
| ·铁电薄膜晶化的特点 | 第68-74页 |
| ·铁电薄膜晶化的形核单元 | 第68-69页 |
| ·铁电薄膜的二维特性对形核的影响 | 第69-70页 |
| ·铁电薄膜晶化的优先形核位置 | 第70-73页 |
| ·RTA对铁电薄膜内形核初期温度分布的影响 | 第73-74页 |
| ·稳态形核率 | 第74-78页 |
| ·形核模型的建立 | 第74-76页 |
| ·结果与讨论 | 第76-78页 |
| ·生长速率 | 第78-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 第五章 ABO_3型铁电薄膜晶化行为实验研究 | 第80-98页 |
| ·引言 | 第80页 |
| ·快速退火方法及设备 | 第80-83页 |
| ·快速退火细化薄膜晶粒机理 | 第81-82页 |
| ·快速退火对薄膜晶化分数的影响 | 第82-83页 |
| ·铁电薄膜的制备 | 第83-84页 |
| ·结果与讨论 | 第84-96页 |
| ·快速晶化对STO薄膜晶化行为的影响 | 第84-87页 |
| ·晶化对BST薄膜晶化行为的影响 | 第87-96页 |
| ·本章小结 | 第96-98页 |
| 第六章 主要结论、创新点与展望 | 第98-102页 |
| ·主要结论 | 第98-100页 |
| ·论文的主要创新点 | 第100页 |
| ·未来要开展的工作 | 第100-102页 |
| 致谢 | 第102-103页 |
| 参考文献 | 第103-112页 |
| 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第112页 |
