直流反应磁控溅射法制备Na掺杂p型ZnO薄膜
| 第一章 前言 | 第1-9页 |
| 第二章 文献综述 | 第9-34页 |
| ·ZnO的性质及应用 | 第9-13页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第9-10页 |
| ·ZnO的光电性质及应用 | 第10-12页 |
| ·ZnO的压电和热电性质及应用 | 第12页 |
| ·ZnO的铁电和铁磁性质及应用 | 第12-13页 |
| ·ZnO薄膜的制备技术 | 第13-18页 |
| ·热蒸发法 | 第13-14页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第14页 |
| ·磁控溅射技术 | 第14-15页 |
| ·化学气相沉积技术 | 第15-16页 |
| ·分子束外延技术 | 第16-17页 |
| ·喷雾热解法 | 第17-18页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第18页 |
| ·ZnO薄膜中的缺陷 | 第18-22页 |
| ·ZnO薄膜中的本征点缺陷 | 第18-21页 |
| ·ZnO中的线缺陷 | 第21-22页 |
| ·ZnO中的面缺陷 | 第22页 |
| ·ZnO中的杂质和掺杂 | 第22-34页 |
| ·ZnO薄膜中的非故意掺杂 | 第22-23页 |
| ·ZnO薄膜中的施主掺杂 | 第23-24页 |
| ·ZnO薄膜中的受主掺杂 | 第24-34页 |
| 第三章 直流反应磁控溅射技术实验原理 | 第34-42页 |
| ·磁控溅射原理 | 第34-37页 |
| ·实验设备 | 第37-38页 |
| ·实验制备过程 | 第38-41页 |
| ·靶材制备 | 第38-39页 |
| ·衬底清洗 | 第39-40页 |
| ·ZnO薄膜制备过程 | 第40-41页 |
| ·性能表征 | 第41-42页 |
| 第四章 直流反应磁控溅射法制备Na掺杂ZnO薄膜 | 第42-64页 |
| ·ZnO：Na薄膜与未掺杂ZnO薄膜性能的比较 | 第42-49页 |
| ·样品制备 | 第42页 |
| ·结构分析 | 第42-44页 |
| ·电学性能分析 | 第44-45页 |
| ·表面形貌分析 | 第45-47页 |
| ·光学性能分析 | 第47-49页 |
| ·衬底温度对ZnO：Na薄膜性能的影响 | 第49-55页 |
| ·样品制备 | 第49页 |
| ·结构分析 | 第49-52页 |
| ·电学性能分析 | 第52-53页 |
| ·表面形貌分析 | 第53-54页 |
| ·光学性能分析 | 第54-55页 |
| ·靶材含量对ZnO：Na薄膜性能的影响 | 第55-59页 |
| ·样品制备 | 第55页 |
| ·结构分析 | 第55-56页 |
| ·电学性能分析 | 第56-57页 |
| ·表面形貌分析 | 第57-58页 |
| ·光学性能分析 | 第58-59页 |
| ·Ar：O_2比对ZnO：Na薄膜性能的影响 | 第59-64页 |
| ·样品制备 | 第59页 |
| ·结构分析 | 第59-61页 |
| ·电学性能分析 | 第61-62页 |
| ·表面形貌分析 | 第62-63页 |
| ·光学性能分析 | 第63-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-74页 |
| 硕士期间发表论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
