亚表面缺陷诱导损伤的机理与实验技术研究
| 第一章 绪论 | 第1-13页 |
| ·论文课题背景 | 第8-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-11页 |
| ·该课题工作的意义 | 第11页 |
| ·课题期间相关工作 | 第11-13页 |
| 第二章 亚表面缺陷诱导损伤基础模型 | 第13-29页 |
| ·激光损伤的定义 | 第13页 |
| ·损伤机理 | 第13-19页 |
| ·热效应 | 第13-16页 |
| ·自聚焦效应 | 第16-19页 |
| ·亚表面缺陷的产生及性状 | 第19-21页 |
| ·亚表面缺陷及损伤检测方法 | 第21-22页 |
| ·亚表面缺陷诱导损伤机制 | 第22-23页 |
| ·提高光学元件损伤阈值的方法 | 第23-29页 |
| ·HF酸酸蚀法 | 第24-27页 |
| ·预处理 | 第27-29页 |
| 第三章 针对缺陷模型的FDTD法数值计算研究 | 第29-43页 |
| ·LLNL的计算模型及成果 | 第29-31页 |
| ·时域有限差分(FDTD)法介绍 | 第31-32页 |
| ·针对熔石英亚表面缺陷的计算结果 | 第32-42页 |
| ·二维模型 | 第32-38页 |
| ·三维模型 | 第38-42页 |
| ·结论 | 第42-43页 |
| 第四章 亚表面定量检测技术 | 第43-47页 |
| ·缺陷形貌 | 第43-44页 |
| ·缺陷参数定量研究 | 第44-46页 |
| ·结论 | 第46-47页 |
| 第五章 HF酸刻蚀以减少亚表面裂纹玵缺陷的研究 | 第47-57页 |
| ·该研究的实际意义 | 第47页 |
| ·亚表面缺陷观测结果 | 第47-50页 |
| ·酸蚀法减少亚表面缺陷的实验探索 | 第50-54页 |
| ·HF刻蚀对元件表面影响的实验研究 | 第54-55页 |
| ·结论 | 第55-57页 |
| 第六章 磁流体加酸蚀抑制再沉积层缺陷的研究 | 第57-63页 |
| ·引入新工艺的重要意义 | 第57页 |
| ·磁流体加工工艺(MRF) | 第57-59页 |
| ·HF酸蚀与MRF混合提高元件损伤阈值的实验 | 第59-62页 |
| ·结论 | 第62-63页 |
| 第七章 工作总结 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 附录 | 第71-75页 |
| FDTD 二维模式下的公式推导 | 第71-73页 |
| FDTD 三维模式下的公式推导 | 第73-75页 |
