基于(100)硅片的MOEMS光开关的研制
内容提要 | 第1-7页 |
第一章 绪论 | 第7-23页 |
·引言 | 第7-8页 |
·微光机电系统的构成要素 | 第8-9页 |
·微光机电系统的相关制造工艺 | 第9-11页 |
·微光机电系统的应用及产业化前景 | 第11页 |
·光开关的应用 | 第11-12页 |
·光开关的类型 | 第12-16页 |
·热光效应光开关 | 第12-13页 |
·液晶光开关 | 第13-14页 |
·气泡光开关 | 第14-15页 |
·声光光开关 | 第15页 |
·MOEMS 光开关 | 第15-16页 |
·MOEMS 光开关的制作工艺 | 第16-20页 |
·平面微机械加工工艺制作的光开关 | 第16-18页 |
·体硅微机械加工工艺制作的光开关 | 第18-19页 |
·体硅工艺和平面工艺相结合制作的光开关 | 第19-20页 |
·MOEMS 光开关的现状和市场前景 | 第20-21页 |
·本课题的研究意义及主要研究内 | 第21-23页 |
·研究意义 | 第21-22页 |
·主要研究内容 | 第22-23页 |
第二章 MOEMS 开关的结构设计 | 第23-38页 |
·开关单元的结构和工作原理 | 第23-25页 |
·微反射镜和光纤槽的尺寸的设计 | 第25-26页 |
·静电驱动结构的设计和分析 | 第26-35页 |
·悬臂驱动结构的分析 | 第27-29页 |
·平面下电极的扭臂驱动结构的分析 | 第29-33页 |
·倾斜下电极的扭臂驱动结构的分析 | 第33-35页 |
·开关时间的计算 | 第35-37页 |
·本章小结 | 第37-38页 |
第三章 MOEMS 光开关的制作工艺研究 | 第38-51页 |
·MOEMS 光开关的基本制作工艺 | 第38-44页 |
·各向异性湿法化学腐蚀掩膜的制作 | 第38-39页 |
·光刻工艺 | 第39-41页 |
·反应离子刻蚀(RIE)工艺 | 第41-43页 |
·湿法刻蚀工艺 | 第43-44页 |
·MOEMS 光开关的制作工艺流程 | 第44-46页 |
·下电极的制作 | 第46-48页 |
·微机械光开关的组装 | 第48-49页 |
·组装需要的仪器和元件 | 第48页 |
·组装过程 | 第48-49页 |
·本章小结 | 第49-51页 |
第四章 MOEMS 光开关性能的测试 | 第51-57页 |
·MOEMS 光开关的性能指标 | 第51-52页 |
·微反射镜表面粗糙度的测试 | 第52-53页 |
·MOEMS 光开关光学性能的测试 | 第53-54页 |
·插入损耗的测试 | 第53-54页 |
·串话的测试 | 第54页 |
·开关时间的测试 | 第54-56页 |
·开关寿命的测试 | 第56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第五章 全文总结与展望 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-64页 |
致谢 | 第64-66页 |
摘要 | 第66-68页 |
ABSTRACT | 第68-69页 |