| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-21页 |
| ·引言 | 第8-10页 |
| ·非线性光学材料的重要性 | 第8-9页 |
| ·半导体纳米材料的重要性 | 第9-10页 |
| ·三阶非线性光学效应简介 | 第10-13页 |
| ·非线性光学效应 | 第10-11页 |
| ·三阶非线性光学效应 | 第11-13页 |
| ·三阶非线性折射率基本理论 | 第13-16页 |
| ·强光引起折射率变化——光致折射率变化 | 第13-14页 |
| ·自聚焦效应与自散焦效应 | 第14-15页 |
| ·光致折射率变化的物理机制 | 第15-16页 |
| ·三阶非线性折射率的研究与应用 | 第16-17页 |
| ·三阶非线性折射率的测量方法 | 第17-19页 |
| ·研究内容和研究意义 | 第19-21页 |
| 第二章 Z-Scan 技术概述 | 第21-36页 |
| ·Z-Scan 原理 | 第21-24页 |
| ·只考虑非线性折射时Z-scan 理论及计算 | 第24-26页 |
| ·测量非线性吸收的Z-scan 理论及计算 | 第26-27页 |
| ·厚光学非线性介质的Z-Scan 理论 | 第27-28页 |
| ·各种改进的Z-scan 技术 | 第28-36页 |
| 第三章 高斯光束 Z-扫描特征曲线研究 | 第36-48页 |
| ·数值计算法分离非线性吸收效应 | 第36-40页 |
| ·实验系统参数对Z-扫描特征曲线的影响 | 第40-47页 |
| ·光阑半径固定时，d 的变化对特征曲线的影响 | 第41-44页 |
| ·光阑到透镜焦点间距离固定时，rA的选取对特征曲线的影响 | 第44-45页 |
| ·d 与rA比值的大小对特征曲线的影响 | 第45-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 第四章 表面修饰对半导体纳米粒子三阶非线性折射系数的影响 | 第48-58页 |
| ·研究表面修饰对纳米粒子三阶非线性影响的意义 | 第48页 |
| ·表面修饰对纳米粒子三阶非线性影响的研究现状 | 第48-49页 |
| ·理论模型 | 第49-52页 |
| ·纳米粒子表面电场的计算 | 第49-51页 |
| ·相对局域场增强因子 | 第51-52页 |
| ·表面修饰谷氨酸分子的 Fe2O3纳米粒子及其裸粒的三阶光学非线性折射系数的研究 | 第52-57页 |
| ·实验 | 第52-53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-56页 |
| ·验证 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 总结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
