摘要 | 第1-8页 |
ABSTRACT | 第8-17页 |
第一章 文献综述 | 第17-37页 |
·三价铬单金属及合金电沉积的发展历史与研究现状 | 第17-24页 |
·六价铬电沉积及其工艺缺点 | 第17-18页 |
·三价铬单金属及合金电沉积的发展史 | 第18-20页 |
·三价铬单金属及合金电沉积在我国的发展史 | 第20-21页 |
·三价铬单金属以合金电沉积工艺的优势与不足 | 第21-22页 |
·三价铬电沉积的工艺与理论研究进展 | 第22-24页 |
·电沉积纳米晶体材料的发展历史与现状 | 第24-28页 |
·电沉积纳米材料的发展史 | 第24-25页 |
·电沉积纳米材料的优点 | 第25页 |
·电沉积纳米晶体材料的方法 | 第25-26页 |
·制备电沉积纳米晶体的影响因素 | 第26-27页 |
·电沉积纳米晶体的应用前景 | 第27-28页 |
·脉冲电沉积制备材料的理论与发展现状 | 第28-34页 |
·脉冲电沉积的发展历史 | 第28-29页 |
·脉冲电沉积的基础理论 | 第29-33页 |
·脉冲电沉积的应用 | 第33-34页 |
·脉冲电沉积制备纳米晶体的优点 | 第34页 |
·脉冲电沉积制备纳米晶体铬-镍-铁合金研究的发展现状 | 第34-35页 |
·本研究的主要内容与意义 | 第35-37页 |
第二章 电沉积纳米晶铁系合金箔工艺研究 | 第37-54页 |
·引言 | 第37页 |
·实验研究方法 | 第37-38页 |
·实验仪器 | 第37页 |
·铁系合金箔电沉积工艺流程和工艺 | 第37-38页 |
·铁系合金箔性能测试 | 第38页 |
·电沉积铁系合金箔镀液中各组分的作用 | 第38-39页 |
·操作工艺条件分析 | 第39-40页 |
·温度 | 第39页 |
·电流密度 | 第39页 |
·溶液pH值 | 第39页 |
·阳极 | 第39页 |
·搅拌 | 第39-40页 |
·铁-镍合金中铁含量影响因素的研究 | 第40-43页 |
·主盐中亚铁离子浓度对镍-铁合金中铁含量的影响 | 第40页 |
·主盐中镍铁离子浓度比对镍-铁合金中铁含量的影响 | 第40-41页 |
·沉积电流密度对镍-铁合金中铁含量的影响 | 第41页 |
·稳定剂浓度对镍-铁合金中铁含量的影响 | 第41-42页 |
·镀液温度对镍-铁合金中铁含量的影响 | 第42页 |
·镀液pH值对镍-铁合金中铁含量的影响 | 第42-43页 |
·合金箔材不同区域合金成分分布 | 第43-44页 |
·维持合金成分1:1时镍铁离子浓度比与电流密度的关系 | 第44页 |
·铁-镍-铬合金箔中铁含量的影响因素研究 | 第44-47页 |
·Hull Cell槽实验 | 第45页 |
·工艺条件对铁-镍-铬合金箔镀层成分及电流效率的影响 | 第45-47页 |
·电流密度对铁-镍-铬合金箔镀层成分及电流效率的影响 | 第45页 |
·溶液温度对铁-镍-铬合金箔镀层成分及电流效率的影响 | 第45-46页 |
·溶液pH值对铁-镍-铬合金箔镀层成分及电流效率的影响 | 第46页 |
·[Cr~(3+)]对铁-镍-铬合金箔镀层成分及电流效率的影响 | 第46-47页 |
·阳极的配比 | 第47-48页 |
·电沉积铁-镍-铬合金箔形貌和结构分析 | 第48-50页 |
·电沉积铁-镍-铬合金箔表面形貌分析 | 第48-49页 |
·电沉积铁-镍-铬合金箔的结构分析 | 第49-50页 |
·电沉积铁-镍-铬合金箔的物理性能和化学性能 | 第50-53页 |
·电沉积铁-镍-铬合金箔的电阻性能 | 第50-51页 |
·电沉积铁-镍-铬合金箔的磁性能 | 第51页 |
·电沉积铁-镍-铬合金箔的抗拉强度和延展性 | 第51-52页 |
·电沉积铁-镍-铬合金箔在10%H_2SO_4中电化学行为 | 第52-53页 |
·本章小结 | 第53-54页 |
第三章 脉冲电沉积纳米晶铬的工艺研究 | 第54-66页 |
·前言 | 第54页 |
·实验方法 | 第54-56页 |
·电极前处理及实验仪器 | 第54页 |
·电解液组成 | 第54-55页 |
·工艺流程及实验装置 | 第55页 |
·镀层性能测定 | 第55-56页 |
·镀液中各组分的作用 | 第56页 |
·纳米晶铬的电沉积工艺研究 | 第56-62页 |
·三价铬离子浓度对铬镀层沉积速度及电流效率的影响 | 第56-57页 |
·电流密度对铬镀层沉积速度及电流效率的影响 | 第57-58页 |
·脉冲周期对铬镀层沉积速度及电流效率的影响 | 第58页 |
·脉冲占空比对铬镀层沉积速度及电流效率的影响 | 第58-59页 |
·温度对铬镀层沉积速度及电流效率的影响 | 第59-60页 |
·溶液pH值对铬镀层沉积速度及电流效率的影响 | 第60页 |
·沉积时间对铬镀层沉积速度及电流效率的影响 | 第60-61页 |
·镀液循环速度对铬镀层沉积速度及电流效率的影响 | 第61-62页 |
·直流与脉冲电沉积纳米晶铬的比较 | 第62页 |
·Hull Cell(赫尔槽)实验 | 第62页 |
·脉冲与直流电沉积铬纳米晶电流效率的比较 | 第62页 |
·纳米晶铬镀层的性能 | 第62-65页 |
·镀层结合力 | 第62-63页 |
·镀层表面形貌 | 第63页 |
·镀层的结构 | 第63-64页 |
·镀层的耐蚀性 | 第64-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
第四章 脉冲电沉积铬镍铁合金纳米晶工艺研究 | 第66-95页 |
·引言 | 第66页 |
·实验方法 | 第66-68页 |
·实验仪器 | 第66页 |
·铬-镍-铁合金电沉积工艺流程及实验装置 | 第66-67页 |
·铬-镍-铁合金电沉积镀液组成工艺各组分的作用及条件分析 | 第67-68页 |
·镀层性能测定 | 第68页 |
·工艺条件对铬-镍-铁合金沉积速度和电流效率的影响 | 第68-76页 |
·主盐浓度对合金沉积速度和电流效率的影响 | 第68-70页 |
·N,N-二甲基甲酰胺与[Cr~(3+)]比对合金沉积速度和电流效率的影响 | 第70-71页 |
·脉冲参数对合金沉积速度和电流效率的影响 | 第71-72页 |
·平均电流密度对合金沉积速度和电流效率的影响 | 第72-73页 |
·温度对合金沉积速度和电流效率的影响 | 第73页 |
·溶液pH值对合金沉积速度和电流效率的影响 | 第73-74页 |
·镀液循环速度对合金沉积速度和电流效率的影响 | 第74-75页 |
·沉积时间对合金沉积速度和电流效率的影响 | 第75页 |
·槽电压对合金沉积速度和电流效率的影响 | 第75-76页 |
·工艺条件对铬-镍-铁合金成分、晶粒尺寸和形貌的影响 | 第76-85页 |
·主盐浓度对铬-镍-铁合金成分、晶粒尺寸和形貌的影响 | 第76-79页 |
·N,N-二甲基甲酰胺与[Cr~(3+)]比对合金成分、晶粒尺寸和形貌的影响 | 第79页 |
·脉冲参数对合金成分、晶粒尺寸和形貌的影响 | 第79-81页 |
·平均电流密度对合金成分、晶粒尺寸和形貌的影响 | 第81-82页 |
·温度对合金成分、晶粒尺寸和形貌的影响 | 第82页 |
·溶液pH值对合金成分、晶粒尺寸和形貌的影响 | 第82-83页 |
·镀液循环速度对合金成分、晶粒尺寸和形貌的影响 | 第83-84页 |
·沉积时间对合金成分、晶粒尺寸和形貌的影响 | 第84-85页 |
·槽电压对合金成分、晶粒尺寸和形貌的影响 | 第85页 |
·阳极及镀液稳定性 | 第85-86页 |
·脉冲电沉积铬-镍-铁合金镀层的电催化活性 | 第86-87页 |
·脉冲电沉积铬-镍-铁合金镀层的物理性能 | 第87页 |
·脉冲与直流电沉积铬-镍-铁合金的比较 | 第87-93页 |
·脉冲与直流电沉积铬-镍-铁合金Hull Cell实验比较 | 第88页 |
·脉冲与直流电沉积铬-镍-铁合金极化曲线的比较 | 第88-89页 |
·脉冲与直流电沉积铬-镍-铁合金电流效率的比较 | 第89-90页 |
·脉冲与直流电沉积铬-镍-铁合金晶粒尺寸比较 | 第90页 |
·脉冲与直流电沉积铬-镍-铁合金形貌的比较 | 第90-91页 |
·脉冲与直流电沉积铬-镍-铁合金结构的比较 | 第91-92页 |
·脉冲与直流电沉积铬-镍-铁合金耐蚀性比较 | 第92-93页 |
·本章小结 | 第93-95页 |
第五章 电沉积铬-镍-铁合金电解液的研究 | 第95-105页 |
·引言 | 第95页 |
·实验研究方法 | 第95页 |
·铬-镍-铁合金电解液性能研究 | 第95-104页 |
·电解液陈化的研究 | 第95-98页 |
·电解液稳定性研究 | 第98-101页 |
·电解液缓冲能力的研究 | 第101-103页 |
·三价铬离子在电解液中存在形式的研究 | 第103-104页 |
·本章小结 | 第104-105页 |
第六章 铬-镍-铁合金电沉积的电化学研究 | 第105-115页 |
·引言 | 第105页 |
·实验研究方法 | 第105-106页 |
·铬-镍-铁合金共沉积基础液的电化学行为 | 第106-114页 |
·合金电沉积基础液的电化学行为 | 第106-107页 |
·铬、镍、镍-铁合金、铬-镍-铁合金稳态极化曲线 | 第107-108页 |
·镍-镍-铁合金的交流阻抗研究 | 第108-111页 |
·铬-镍-铁合金共沉积的活化能研究 | 第111-113页 |
·镀层增厚困难的原因 | 第113-114页 |
·本章小节 | 第114-115页 |
第七章 三价铬电沉积机理研究 | 第115-140页 |
·引言 | 第115页 |
·实验研究方法 | 第115页 |
·三价铬离子的阴极还原过程 | 第115-119页 |
·三价铬离子还原的循环伏安图 | 第115-118页 |
·三价铬离子还原的E-i研究 | 第118页 |
·三价铬离子还原的电流阶跃研究 | 第118-119页 |
·控制步骤性质的确定 | 第119-122页 |
·控制步骤性质的测定 | 第119-120页 |
·三价铬离子还原的活化能 | 第120-122页 |
·电极反应机理的确定 | 第122-132页 |
·三价铬离子阴极还原的交流阻抗研究 | 第122-130页 |
·扩散层电容以及电子传递电阻的测定 | 第130-131页 |
·三价铬离子还原为电活性中间体二价铬离子的吸附研究 | 第131-132页 |
·电极反应动力学参数的测定 | 第132-136页 |
·表观传递系数的测定 | 第132-133页 |
·控制步骤计量数的测定 | 第133-134页 |
·电化学反应化学计量数的测定 | 第134-136页 |
·电化学反应速度常数k_S | 第136页 |
·电极反应动力学方程的理论推导 | 第136-138页 |
·电极反应机理的表观传递系数论证 | 第138页 |
·本章小结 | 第138-140页 |
第八章 脉冲电沉积铬机理研究 | 第140-158页 |
·引言 | 第140页 |
·实验研究方法 | 第140页 |
·脉冲电沉积机理研究 | 第140-156页 |
·脉冲电沉积中双电层效应的影响 | 第140-141页 |
·脉冲电沉积中传质的影响 | 第141-144页 |
·脉冲电沉积中表面浓度的研究 | 第144-151页 |
·理论模型研究脉冲电沉积过程中传质与表面浓度的关系 | 第151-156页 |
·本章小结 | 第156-157页 |
附录 | 第157-158页 |
第九章 电沉积纳米晶铬的机理研究 | 第158-176页 |
·引言 | 第158页 |
·实验研究方法 | 第158页 |
·电结晶机理简述 | 第158-168页 |
·二维成核的生长机理 | 第158-159页 |
·二维晶核的临界尺寸与生长能 | 第159-161页 |
·单核生长和多核生长的暂态特征 | 第161-163页 |
·三维晶核模型 | 第163-164页 |
·电位阶跃法研究电结晶过程 | 第164-165页 |
·电结晶机理推导 | 第165-168页 |
·三价铬还原电结晶纳米晶的研究 | 第168-175页 |
·本章小结 | 第175-176页 |
第十章 总结 | 第176-180页 |
参考文献 | 第180-190页 |
攻读博士学位期间公开发表学术论文以获奖情况 | 第190-191页 |
致谢 | 第191页 |