| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1．1 现代表面技术 | 第9-13页 |
| 1．2 表面技术中的非平衡等离子体技术的发展趋势及应用 | 第13-19页 |
| 1．2．1 低压非平衡等离子体技术的应用 | 第13-15页 |
| 1．2．2 常压非平衡等离子体技术的应用 | 第15-17页 |
| 1．2．3 常压介质阻挡放电的应用 | 第17-19页 |
| 1．3 本课题的提出与研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 常压非平衡等离子体的产生方法及基本原理 | 第20-29页 |
| 2．1 非平衡态等离子体 | 第20页 |
| 2．2 非平衡态等离子体的产生方法 | 第20-21页 |
| 2．3 常压非平衡等离子体的产生—常压介质阻挡放电 | 第21-28页 |
| 2．3．1 常压介质阻挡放电的性质 | 第21-22页 |
| 2．3．2 常压介质阻挡放电的物理过程 | 第22-25页 |
| 2．3．3 常压介质阻挡放电的形成 | 第25-28页 |
| 2．4 小结 | 第28-29页 |
| 第3章 试验设备 | 第29-37页 |
| 3．1 系统工作原理示意图 | 第29页 |
| 3．2 电源设备 | 第29-33页 |
| 3．2．1 电源设备工作原理 | 第29-30页 |
| 3．2．2 IGBT逆变型电源设备的特点 | 第30-31页 |
| 3．2．3 电源设备放电电压和电流波形测试 | 第31-33页 |
| 3．3 炉体设备 | 第33-37页 |
| 3．3．1 炉体设备简介 | 第33-35页 |
| 3．3．2 炉体设备主要技术性能指标 | 第35-37页 |
| 第4章 常压介质阻挡放电离子渗氮试验中各参数对试样性能的影响 | 第37-51页 |
| 4．1 试验样品的选择 | 第37页 |
| 4．2 试验样品的制备 | 第37页 |
| 4．3 影响渗层性能的工艺条件和参数 | 第37-39页 |
| 4．4 试验工艺步骤 | 第39页 |
| 4．5 渗层性能分析方法 | 第39-40页 |
| 4．6 常压介质阻挡放电渗氮试验及试样性能分析 | 第40-50页 |
| 4．6．1 电场内外渗扩效果对比试验 | 第40-41页 |
| 4．6．2 工艺参数对38CrMoAl试样性能的影响 | 第41-50页 |
| 4．6．2．1 试验温度对试样性能的影响 | 第41-46页 |
| 4．6．2．2 电极间距对试样性能的影响 | 第46-48页 |
| 4．6．2．3 试验电压对试样性能的影响 | 第48-49页 |
| 4．6．2．4 试验时间对试样性能的影响 | 第49-50页 |
| 4．7 小结 | 第50-51页 |
| 第5章 常压介质阻挡放电离子渗氮试验的正交分析 | 第51-69页 |
| 5．1 正交分析原理简介 | 第51-53页 |
| 5．1．1 正交表的代号及含义 | 第51页 |
| 5．1．2 正交表的特点和设计原理 | 第51-52页 |
| 5．1．3 正交试验方案的设计步骤 | 第52页 |
| 5．1．4 正交试验后常用的分析方法 | 第52-53页 |
| 5．2 常压介质阻挡放电离子渗氮试验的正交设计 | 第53-59页 |
| 5．2．1 常压介质阻挡放电渗氮试验的因素位级表设计 | 第53-54页 |
| 5．2．2 正交试验结果及分析 | 第54-59页 |
| 5．3 与真空辉光离子渗氮比较 | 第59页 |
| 5．4 活塞零件材料常压渗氮后的摩擦磨损试验 | 第59-63页 |
| 5．5 试验因素与试样渗层深度之间的效应函数 | 第63-68页 |
| 5．5．1 回归分析方法简介 | 第63-64页 |
| 5．5．2 常压介质阻挡放电离子渗氮工艺的回归分析 | 第64-68页 |
| 5．6 小结 | 第68-69页 |
| 第6章 常压介质阻挡放电离子渗扩机理分析 | 第69-80页 |
| 6．1 测试装置—发射光谱简介 | 第69-70页 |
| 6．2 电离碰撞过程 | 第70-71页 |
| 6．3 N_2在介质阻挡放电中等离子体状态的研究与渗氮机理分析 | 第71-76页 |
| 6．4 NH_3在介质阻挡放电中等离子体状态的研究与渗氮机理分析 | 第76-79页 |
| 6．5 小结 | 第79-80页 |
| 第7章 结论 | 第80-82页 |
| 攻读学位期间公开发表的论文 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-90页 |
