镀锌板表面磁控溅射法制备Al-Mg合金镀层及其性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-27页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·电镀行业的发展状况 | 第10-11页 |
| ·磁控溅射镀膜发展及应用 | 第11-23页 |
| ·磁控溅射镀膜原理及特点 | 第12-13页 |
| ·磁控溅射镀膜技术进展 | 第13-19页 |
| ·影响磁控溅射的主要因素 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射靶材 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射镀膜的应用 | 第21页 |
| ·新型磁控溅射镀膜工艺 | 第21-22页 |
| ·其他制备薄膜的方法 | 第22-23页 |
| ·国内外研究状况及进展 | 第23-24页 |
| ·本论文的主要工作 | 第24-27页 |
| 第2章 实验原理及方法 | 第27-41页 |
| ·实验设备 | 第27-30页 |
| ·试验设备的主要部分 | 第27-30页 |
| ·其它实验仪器 | 第30页 |
| ·实验试剂及材料 | 第30页 |
| ·实验原理 | 第30-35页 |
| ·辉光放电原理 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射的工作原理 | 第31-32页 |
| ·主要工艺参数 | 第32-34页 |
| ·磁控溅射的温升原因及低温原理 | 第34-35页 |
| ·电化学试验 | 第35页 |
| ·实验方法 | 第35-41页 |
| ·基片的清洗 | 第35-36页 |
| ·实验设计 | 第36-37页 |
| ·Al-Mg镀层的制备步骤 | 第37-38页 |
| ·Al-Mg薄膜的表征 | 第38-41页 |
| 第3章 实验结果与分析 | 第41-53页 |
| ·Al-Mg合金镀层的外观 | 第41-42页 |
| ·Al-Mg合金镀层的表面形貌和成分 | 第42-46页 |
| ·Al-Mg合金镀层表面形貌 | 第42-44页 |
| ·Al-Mg合金镀层成分 | 第44-46页 |
| ·Al-Mg合金镀层XRD分析 | 第46-47页 |
| ·Al-Mg合金镀层电化学分析 | 第47-50页 |
| ·Al-Mg合金镀层耐盐雾试验分析 | 第50-53页 |
| 第4章 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
