| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-9页 |
| 1 溅射沉积技术的发展与应用 | 第9-18页 |
| ·溅射现象 | 第9-10页 |
| ·典型溅射沉积方法 | 第10-13页 |
| ·直流溅射 | 第10页 |
| ·射频溅射 | 第10-11页 |
| ·平衡磁控溅射 | 第11-12页 |
| ·非平衡磁控溅射 | 第12-13页 |
| ·溅射沉积的应用以及沉积铜膜的用途 | 第13-17页 |
| ·溅射沉积的应用 | 第13-15页 |
| ·沉积铜膜的用途 | 第15-17页 |
| ·本工作的目的意义和研究内容 | 第17-18页 |
| 2 辅助磁场约束非平衡磁控溅射放电等离子体的产生装置 | 第18-25页 |
| ·设计思想 | 第18-19页 |
| ·实验装置及磁场分布 | 第19-24页 |
| ·实验装置 | 第19-20页 |
| ·外磁场的选择 | 第20页 |
| ·随空间缓变磁场中粒子受力分析 | 第20-21页 |
| ·磁场空间分布模拟 | 第21-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 3 用Langmuir探针测量等离子体参数 | 第25-39页 |
| ·Langmuir探针诊断系统介绍 | 第25-30页 |
| ·Langmuir探针简单介绍 | 第25-27页 |
| ·由Langmuir探针得到的I-V特性曲线 | 第27-29页 |
| ·Laframboise理论 | 第29-30页 |
| ·Langmuir探针对非平衡磁控溅射等离子体参数测量结果 | 第30-38页 |
| ·等离子体电位 | 第30-32页 |
| ·电子温度 | 第32-34页 |
| ·电子密度和离子密度 | 第34-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 4 非平衡磁控溅射原子发射光谱研究 | 第39-49页 |
| ·原子发射光谱介绍 | 第39-44页 |
| ·原子发射光谱发展 | 第39-40页 |
| ·发射光谱概述 | 第40-41页 |
| ·光谱谱线的分析 | 第41-44页 |
| ·非平衡磁控溅射等离子体发射光谱测量 | 第44-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 结论与展望 | 第49-51页 |
| 1 结论 | 第49-50页 |
| 2 展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |