| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 前言 | 第7-19页 |
| ·PLZT铁电薄膜的研究进展 | 第10-14页 |
| ·溶胶-凝胶(Sol-gel)工艺 | 第10-11页 |
| ·溶胶-凝胶工艺制备PLZT铁电厚膜的研究现状 | 第11-12页 |
| ·溶胶-凝胶工艺制备铁电厚膜中抑制开裂的研究 | 第12-14页 |
| ·PLZT铁电薄膜图形化的研究进展 | 第14-17页 |
| ·本课题研究的意义及主要内容 | 第17-19页 |
| 2 实验方案及实验条件 | 第19-33页 |
| ·高浓度PLZT光敏性溶胶体系的确定 | 第19-21页 |
| ·高浓度的感光性PLZT溶胶的合成 | 第21-22页 |
| ·PVP对感光性Sol-gel工艺的影响规律研究 | 第22页 |
| ·PLZT薄膜热处理工艺研究 | 第22-25页 |
| ·PLZT薄膜图形的结构、形貌、性能表征 | 第25页 |
| ·样品制备及其测试方法 | 第25-27页 |
| ·PLZT薄膜及其图形化薄膜的电学性能测试方法及原理 | 第27-31页 |
| ·实验设备以及测试仪器 | 第31-33页 |
| ·薄膜以及薄膜图形的制备设备 | 第31页 |
| ·分析测试仪器 | 第31-33页 |
| 3 高浓度PLZT溶胶的合成及其感光特性研究 | 第33-43页 |
| ·常规的溶胶-凝胶工艺 | 第33-36页 |
| ·改进的溶胶-凝胶工艺 | 第36-37页 |
| ·光敏性PLZT溶胶的稳定性及其凝胶膜的感光性研究 | 第37-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 4 PVP对感光性Sol-gel工艺的影响规律研究 | 第43-53页 |
| ·PVP对PLZT凝胶膜的紫外感光性的影响 | 第43-44页 |
| ·PVP对PLZT单次制备的薄膜厚度的影响 | 第44-46页 |
| ·PVP对PLZT薄膜图形化工艺的影响 | 第46-50页 |
| ·PLZT薄膜图形制备溶洗过程中膜厚的变化 | 第50-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 5 PLZT薄膜热处理工艺研究 | 第53-67页 |
| ·PLZT凝胶膜的差热、红外及其结构分析 | 第53-57页 |
| ·PVP加入量对抑制PLZT薄膜开裂的影响 | 第57-58页 |
| ·连续热处理 | 第58-60页 |
| ·微波处理-热处理 | 第60-64页 |
| ·微波处理时凝胶膜的红外谱图 | 第60-63页 |
| ·XRD结构表征 | 第63-64页 |
| ·阶段热处理 | 第64-65页 |
| ·小结 | 第65-67页 |
| 6 PLZT薄膜及其图形单元的电学性能 | 第67-81页 |
| ·重复多次制备的PLZT薄膜的电学性能 | 第67-71页 |
| ·单次制备的PLZT薄膜的电学性能 | 第71-76页 |
| ·PLZT薄膜图形单元的电学性能 | 第76-79页 |
| ·单次制备PLZT薄膜及其图形化薄膜的性能对比 | 第79-80页 |
| ·小结 | 第80-81页 |
| 7 结论 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-91页 |
| 附录 | 第91页 |
