纳米二氧化钛薄膜材料制备及光催化性能研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
引言 | 第10-11页 |
1 文献综述 | 第11-19页 |
·TiO_2晶体结构 | 第11-12页 |
·半导体光催化基本原理 | 第12-13页 |
·TiO_2光催化技术的应用现状 | 第13-15页 |
·光催化降解有机污染物 | 第13页 |
·光催化降解无机污染物 | 第13-14页 |
·表面光致亲水性的应用 | 第14页 |
·光催化杀菌 | 第14页 |
·光催化还原二氧化碳 | 第14-15页 |
·TiO_2光催化的改性 | 第15-16页 |
·贵金属沉积 | 第15页 |
·半导体复合 | 第15页 |
·金属元素掺杂 | 第15-16页 |
·光敏化 | 第16页 |
·TiO_2薄膜的制备方法 | 第16-17页 |
·溶胶-凝胶法 | 第16页 |
·水热法 | 第16-17页 |
·微乳液法 | 第17页 |
·化学气相沉积法 | 第17页 |
·TiO_2光催化技术存在的问题 | 第17-18页 |
·选题的意义及内容 | 第18-19页 |
2 实验部分 | 第19-27页 |
·实验药品及主要的仪器设备 | 第19-20页 |
·TiO_2薄膜制备的工艺流程 | 第20-22页 |
·基体的预处理 | 第20页 |
·溶胶的配制 | 第20-21页 |
·TiO_2薄膜的制备 | 第21-22页 |
·薄膜的测试及表征方法 | 第22-23页 |
·薄膜厚度的测定 | 第22页 |
·紫外可见光谱(UV-Vis) | 第22页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第22页 |
·扫描电镜(SEM) | 第22-23页 |
·比表面积测定(BET) | 第23页 |
·光催化降解性能实验 | 第23-26页 |
·甲基蓝溶液的制备 | 第23-24页 |
·光催化反应装置 | 第24页 |
·最大吸收波长的测定 | 第24-25页 |
·甲基蓝浓度与吸光度值的关系 | 第25-26页 |
·光催化降解效果分析 | 第26页 |
·小结 | 第26-27页 |
3 TiO_2薄膜制备过程中的影响因素分析及表征 | 第27-34页 |
·TiO_2薄膜制备过程中的主要影响因素 | 第27-30页 |
·原料各组分比例对溶胶制备的影响 | 第27页 |
·反应温度对凝胶时间的影响 | 第27-28页 |
·镀膜次数对膜厚及光学性能的影响 | 第28-29页 |
·提拉速度对膜厚的影响 | 第29-30页 |
·pH值对薄膜的影响 | 第30页 |
·热处理温度对薄膜晶型的影响 | 第30页 |
·薄膜的表征 | 第30-33页 |
·薄膜的物相分析 | 第30-31页 |
·薄膜的表面形貌特征 | 第31页 |
·比表面积及孔分布分析 | 第31-32页 |
·薄膜的光学性能 | 第32-33页 |
·小结 | 第33-34页 |
4 改性二氧化钛薄膜光催化性能研究 | 第34-48页 |
·试验部分 | 第34页 |
·结果和讨论 | 第34-46页 |
·吐温20改良溶胶对光催化效果的影响 | 第34-36页 |
·催化剂用量对光催化效果的影响 | 第36-37页 |
·溶胶pH对光催化降解率的影响 | 第37-38页 |
·去离子水量对光催化降解率的影响 | 第38-39页 |
·热处理温度对光催化降解率的影响 | 第39-41页 |
·镀膜次数对光催化效果的影响 | 第41-42页 |
·粉体TiO_2与TiO_2薄膜的光催化对比试验 | 第42-43页 |
·溶液初始浓度对光催化降解效率的影响 | 第43-44页 |
·薄膜的光催化稳定性分析 | 第44-45页 |
·光源对光催化降解效果影响 | 第45-46页 |
·小结 | 第46-48页 |
5 二氧化钛薄膜对亚甲基蓝光催化降解动力学研究 | 第48-57页 |
·动力学研究概况 | 第48页 |
·光催化反应动力学模型 | 第48-49页 |
·结果与讨论 | 第49-56页 |
·不同催化剂量的动力学研究 | 第49-51页 |
·不同初始浓度的动力学研究 | 第51-52页 |
·不同溶液pH的动力学研究 | 第52-53页 |
·不同热处理薄膜降解亚甲基蓝的动力学研究 | 第53-54页 |
·不同水量处理薄膜降解亚甲基蓝的动力学研究 | 第54-56页 |
·小结 | 第56-57页 |
结论 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-63页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第63-64页 |
致谢 | 第64-65页 |