氢化非晶硅薄膜的直流和射频磁控溅射法制备及其表征
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·太阳能电池的发展历史及现状 | 第10-14页 |
| ·太阳能电池的发展历史 | 第10-11页 |
| ·太阳能电池的材料 | 第11页 |
| ·太阳能电池的分类及比较 | 第11-14页 |
| ·非晶硅薄膜的概况 | 第14页 |
| ·非晶硅材料 | 第14-20页 |
| ·非晶硅材料的结构 | 第14-17页 |
| ·非晶硅材料的电学性能 | 第17-18页 |
| ·非晶硅材料的光学性能 | 第18-19页 |
| ·非晶硅材料的光致衰退机制 | 第19-20页 |
| ·非晶硅薄膜的制备方法 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射法制备非晶硅薄膜 | 第21-23页 |
| ·本论文研究的目的及内容 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第2章 薄膜的理论基础 | 第25-33页 |
| ·薄膜的生长 | 第25-29页 |
| ·气体离子的吸附 | 第25-26页 |
| ·薄膜的形成 | 第26-27页 |
| ·三维岛的生长阶段 | 第27-29页 |
| ·薄膜的结构 | 第29-31页 |
| ·薄膜的晶体结构分析 | 第29-30页 |
| ·晶粒尺寸 | 第30页 |
| ·表面粗糙度 | 第30-31页 |
| ·薄膜的密度 | 第31页 |
| ·薄膜的缺陷 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 实验设计 | 第33-37页 |
| ·实验靶材 | 第33页 |
| ·玻璃基片的清洗 | 第33页 |
| ·实验设备 | 第33-35页 |
| ·性能表征 | 第35-36页 |
| ·X射线晶体衍射分析(XRD) | 第35页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第35页 |
| ·薄膜成分的测定 | 第35页 |
| ·薄膜厚度与光学性能测试 | 第35-36页 |
| ·红外光谱分析测试 | 第36页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 直流溅射工艺参数对薄膜结构和性能的影响 | 第37-53页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·溅射功率对薄膜结构和性能的影响 | 第37-42页 |
| ·薄膜生长速率分析 | 第37-39页 |
| ·X射线衍射分析 | 第39页 |
| ·紫外-可见光透射光谱分析 | 第39-42页 |
| ·Raman光谱分析 | 第42页 |
| ·基片温度对薄膜结构和性能的影响 | 第42-47页 |
| ·薄膜生长速率分析 | 第42-44页 |
| ·X射线衍射分析 | 第44页 |
| ·紫外-可见光透射光谱分析 | 第44-46页 |
| ·Raman光谱分析 | 第46-47页 |
| ·氢气分压对薄膜结构和性能的影响 | 第47-52页 |
| ·薄膜生长速率分析 | 第47-49页 |
| ·X射线衍射分析 | 第49页 |
| ·紫外-可见光透射光谱分析 | 第49-50页 |
| ·Raman光谱分析 | 第50-51页 |
| ·红外光谱(FTIR)分析 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第5章 射频溅射工艺参数对薄膜结构和性能的影响 | 第53-73页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·非晶硅薄膜成分分析 | 第53-57页 |
| ·溅射功率对薄膜结构和性能的影响 | 第57-61页 |
| ·薄膜生长速率分析 | 第57-59页 |
| ·X射线衍射分析 | 第59页 |
| ·紫外-可见光透射光谱分析 | 第59-61页 |
| ·基片温度对薄膜结构和性能的影响 | 第61-65页 |
| ·薄膜生长速率分析 | 第61-62页 |
| ·X射线衍射分析 | 第62-63页 |
| ·紫外-可见光透射光谱分析 | 第63-64页 |
| ·Raman光谱分析 | 第64-65页 |
| ·氢气分压对薄膜结构和性能的影响 | 第65-69页 |
| ·薄膜生长速率分析 | 第65-66页 |
| ·X射线衍射分析 | 第66-67页 |
| ·紫外-可见光透射光谱分析 | 第67-69页 |
| ·Raman光谱分析 | 第69页 |
| ·两种电源下沉积薄膜的比较 | 第69-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 第6章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 研究生期间发表的论文 | 第80页 |
