| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| ·硬盘发展回顾以及展望 | 第9-13页 |
| ·硬盘存储技术原理 | 第13-22页 |
| ·磁记录原理 | 第13-14页 |
| ·交换偏置 | 第14-17页 |
| ·磁记录介质材料 | 第17-20页 |
| ·磁光存储材料的性能要求 | 第20-22页 |
| ·小结 | 第22页 |
| 参考文献 | 第22-25页 |
| 第二章 薄膜的制备及表征 | 第25-36页 |
| ·薄膜的制备 | 第25-28页 |
| ·溅射技术 | 第25-26页 |
| ·实验设备 | 第26-28页 |
| ·薄膜的表征 | 第28-34页 |
| ·结构和微结构的测量 | 第28-30页 |
| ·薄膜成分的测量 | 第30-32页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第32页 |
| ·薄膜形貌的测量 | 第32-33页 |
| ·薄膜磁性能的测量 | 第33-34页 |
| ·小结 | 第34页 |
| 参考文献 | 第34-36页 |
| 第三章 通过斜溅射缓冲层优化垂直各向异性Ll_0FePt | 第36-53页 |
| ·背景介绍 | 第36-40页 |
| ·沉积在多晶NiO衬底上的FePt薄膜的结构和磁性能 | 第40-41页 |
| ·实验 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-48页 |
| ·小结 | 第48页 |
| 参考文献 | 第48-53页 |
| 第四章 TbFeCo与TbFeCo-SiO_2磁晶各向异性与结构的研究 | 第53-64页 |
| ·背景介绍RE-TM非晶态薄膜的磁各向异性 | 第53-54页 |
| ·实验设计 | 第54页 |
| ·实验 | 第54-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-62页 |
| ·小结 | 第62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第五章 垂直各向异性两维磁光子晶体Co/Pt多层膜的反常磁光克尔效应 | 第64-85页 |
| ·背景介绍 | 第64-74页 |
| ·磁光克尔效应 | 第64-65页 |
| ·表面等离激元 | 第65-72页 |
| ·表面等离激元增强光学透射现象 | 第72-74页 |
| ·Co/Pt成分调制薄膜和Co-Pt合金薄膜 | 第74页 |
| ·实验设计 | 第74-75页 |
| ·实验 | 第75-77页 |
| ·结果与讨论 | 第77-80页 |
| ·小结 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
