碳纳米管场致发射阵列的研制
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-13页 |
| ·课题研究背景 | 第10-11页 |
| ·课题研究意义 | 第11-12页 |
| ·课题研究内容 | 第12-13页 |
| 第二章 碳纳米管场致发射理论及应用 | 第13-28页 |
| ·场致发射的基本理论 | 第13-17页 |
| ·金属场致发射理论 | 第13-16页 |
| ·碳纳米管场致发射理论 | 第16-17页 |
| ·碳纳米管场致发射主要影响因素 | 第17-25页 |
| ·场发射稳定性 | 第17-20页 |
| ·几何结构 | 第20-25页 |
| ·碳纳米管场致发射性能的应用 | 第25-28页 |
| ·微波功能器件 | 第25-26页 |
| ·场致发射显示器 | 第26页 |
| ·X 射线管 | 第26-28页 |
| 第三章 碳纳米管阵列的生长工艺的研究 | 第28-45页 |
| ·微波等离子体化学沉积法 | 第28-29页 |
| ·CVD 法制备碳纳米管的生长机理 | 第29-30页 |
| ·催化层结构的制备 | 第30-34页 |
| ·干法刻蚀工艺 | 第31-32页 |
| ·掩模光刻工艺 | 第32-34页 |
| ·定向碳纳米管的制备 | 第34-44页 |
| ·催化剂材料的影响 | 第34-36页 |
| ·催化层厚度的影响 | 第36-37页 |
| ·催化层阵列结构的影响 | 第37-39页 |
| ·催化层沉积速率的影响 | 第39页 |
| ·温度的影响 | 第39-42页 |
| ·问题及分析 | 第42-44页 |
| ·本章总结 | 第44-45页 |
| 第四章 碳纳米管阵列场致发射特性的测试 | 第45-51页 |
| ·测试设备 | 第45-46页 |
| ·评价指标 | 第46-47页 |
| ·开启电场和阈值电场 | 第46-47页 |
| ·场发射电流密度 | 第47页 |
| ·场发射稳定性 | 第47页 |
| ·场发射电子光斑分布 | 第47页 |
| ·测试结果 | 第47-51页 |
| 第五章 基于碳纳米管场致发射阵列结构的优化 | 第51-66页 |
| ·仿真软件及方法介绍 | 第51-52页 |
| ·模拟计算碳纳米管阵列密度对场致发射性能的影响 | 第52-58页 |
| ·物理模型 | 第53页 |
| ·模拟方法 | 第53-54页 |
| ·模拟结果及讨论 | 第54-58页 |
| ·基于碳纳米管的前栅极结构的仿真与优化 | 第58-64页 |
| ·物理模型及仿真方法 | 第58-59页 |
| ·模拟结果及讨论 | 第59-64页 |
| ·本章总结 | 第64-66页 |
| 第六章 结束语 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 个人简介 | 第73页 |
| 作者攻硕期间取得的成果 | 第73-74页 |
