| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-16页 |
| ·纳米磁性材料 | 第11-12页 |
| ·磁性纳米线研究进展 | 第12-15页 |
| ·模板法合成磁性纳米线的发展 | 第12页 |
| ·磁性纳米线制备和磁学性质的研究进展 | 第12-13页 |
| ·纳米线微磁仿真研究进展 | 第13-14页 |
| ·磁性纳米线应用前景 | 第14-15页 |
| ·本论文研究主要内容和研究意义 | 第15-16页 |
| 第二章 计算机微磁学仿真 | 第16-22页 |
| ·计算机微磁学仿真理论 | 第16-18页 |
| ·磁性理论简介 | 第16-17页 |
| ·微磁学理论 | 第17-18页 |
| ·微磁学计算机仿真原理 | 第18页 |
| ·微磁学仿真程序 | 第18-20页 |
| ·Magpar | 第18-19页 |
| ·其他微磁学仿真软件 | 第19-20页 |
| ·微磁学仿真仿真方法 | 第20-22页 |
| ·仿真流程 | 第20页 |
| ·Netgen | 第20-21页 |
| ·ParaView | 第21-22页 |
| 第三章 10NM 直径CO 纳米线畴壁运动微磁仿真 | 第22-50页 |
| ·添加10NM 长软磁端对仿真结果的影响 | 第22-26页 |
| ·添加10nm 长软磁端的原理和目的 | 第22-23页 |
| ·添加10nm 长软磁端前后磁化反向畴壁运动仿真结果 | 第23-25页 |
| ·添加10nm 长软磁端前后磁化反向畴壁运动速度的比较 | 第25-26页 |
| ·添加10NM 软磁端后在不同外磁场强度下纳米线磁化反向过程 | 第26-33页 |
| ·畴壁运动过程 | 第26-27页 |
| ·畴壁结构 | 第27-28页 |
| ·Mz/Ms 随时间的变化 | 第28-30页 |
| ·Mx/Ms， My/Ms 随时间的变化 | 第30-33页 |
| ·不加软磁端纳米线磁化反向过程 | 第33-39页 |
| ·畴壁运动过程 | 第33-34页 |
| ·畴壁结构 | 第34-35页 |
| ·Mz/Ms 随时间的变化 | 第35-37页 |
| ·Mx/Ms， My/Ms 随时间的变化 | 第37-39页 |
| ·阻尼系数Α对纳米线磁化反向过程影响 | 第39-45页 |
| ·畴壁结构 | 第39-40页 |
| ·Mz/Ms 随时间的变化 | 第40-43页 |
| ·Mx/Ms、My/Ms 随时间的变化 | 第43-45页 |
| ·磁晶各向异性场方向对纳米线磁化反向过程影响 | 第45-49页 |
| ·畴壁结构 | 第46-48页 |
| ·Mz/Ms 随时间的变化 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 不同几何模型纳米线畴璧运动微磁仿真 | 第50-69页 |
| ·直径为20NM，30NM，40NM 纳米线的磁化反向过程 | 第50-55页 |
| ·畴壁结构 | 第50-52页 |
| ·Mz/Ms 随时间的变化 | 第52-54页 |
| ·阻尼系数α对于纳米线磁化反向的影响 | 第54-55页 |
| ·直径为16NM 纳米线磁化反向过程 | 第55-62页 |
| ·畴壁结构 | 第56-57页 |
| ·Mz/Ms 随时间的变化 | 第57-59页 |
| ·Mx/Ms、My/Ms 随时间的变化 | 第59-60页 |
| ·阻尼系数对纳米线磁化反向过程的影响 | 第60-62页 |
| ·双纳米线耦合对纳米线磁化反向过程的影响 | 第62-68页 |
| ·10nm 直径双纳米线磁化反向过程 | 第62-64页 |
| ·30nm 直径双纳米线磁化反向过程 | 第64-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 纳米线制备原理 | 第69-79页 |
| ·纳米材料与纳米结构 | 第69-70页 |
| ·纳米材料 | 第69页 |
| ·纳米结构体系 | 第69-70页 |
| ·厚膜模板合成纳米结构 | 第70-72页 |
| ·厚膜模板合成纳米结构概念及其特点 | 第70页 |
| ·模板的分类 | 第70-71页 |
| ·模板合成纳米结构的方法 | 第71-72页 |
| ·化学沉积NIP 纳米线的步骤和原理 | 第72-76页 |
| ·化学沉积NiP 纳米线前处理过程 | 第72-73页 |
| ·去掉敏化步凑的原因 | 第73-74页 |
| ·化学镀液的组成 | 第74页 |
| ·沉积反应的热力学可能性 | 第74-76页 |
| ·沉积反应的动力学分析 | 第76页 |
| ·电化学沉积纳米线步骤和原理 | 第76-79页 |
| ·工作电极的制作 | 第76页 |
| ·电化学沉积平台的搭建 | 第76-77页 |
| ·电镀液的组成 | 第77页 |
| ·电化学沉积反应原理 | 第77-79页 |
| 第六章 纳米线阵列的制备 | 第79-95页 |
| ·化学沉积NIP 纳米线阵列 | 第79-86页 |
| ·实验 | 第79-80页 |
| ·实验材料及仪器 | 第79页 |
| ·溶液配置 | 第79页 |
| ·实验过程 | 第79-80页 |
| ·实验结果 | 第80-82页 |
| ·SEM 微观形貌测试 | 第80-81页 |
| ·EDS 成分分析 | 第81页 |
| ·XRD 晶相分析 | 第81-82页 |
| ·VSM 磁滞回线分析 | 第82页 |
| ·化学镀液PH 值对纳米线阵列的影响 | 第82-84页 |
| ·SEM 形貌分析 | 第83页 |
| ·EDS 成分分析 | 第83-84页 |
| ·改变反应温度制备纳米管阵列 | 第84-86页 |
| ·SEM 微观形貌测试 | 第84-85页 |
| ·EDS 成分分析 | 第85-86页 |
| ·电化学沉积NI 纳米线 | 第86-90页 |
| ·实验 | 第86-87页 |
| ·实验材料及仪器 | 第86页 |
| ·溶液配置 | 第86页 |
| ·电极系统 | 第86-87页 |
| ·实验过程 | 第87页 |
| ·实验结果 | 第87-90页 |
| ·SEM 微观形貌测试 | 第87-88页 |
| ·EDS 成分分析 | 第88页 |
| ·XRD 晶相分析 | 第88-89页 |
| ·VSM 磁滞回线分析 | 第89-90页 |
| ·电化学沉积CO 纳米线 | 第90-94页 |
| ·实验 | 第90-91页 |
| ·实验材料及仪器 | 第90页 |
| ·溶液配置 | 第90-91页 |
| ·电极系统 | 第91页 |
| ·实验过程 | 第91页 |
| ·实验结果 | 第91-94页 |
| ·SEM 微观形貌测试 | 第91-92页 |
| ·EDS 成分分析 | 第92页 |
| ·XRD 晶相分析 | 第92-93页 |
| ·VSM 磁滞回线分析 | 第93-94页 |
| ·本章小结 | 第94-95页 |
| 第七章 结论 | 第95-96页 |
| 致谢 | 第96-97页 |
| 参考文献 | 第97-101页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第101-102页 |
