原子转移自由基聚合制备分子印迹聚合物
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-23页 |
| ·原子转移自由基聚合（ATRP） | 第8-14页 |
| ·原子转移自由基聚合概述 | 第8页 |
| ·原子转移自由基聚合机理 | 第8-9页 |
| ·原子转移自由基聚合体系 | 第9-13页 |
| ·原子转移自由基聚合方法 | 第13-14页 |
| ·分子印迹技术 | 第14-21页 |
| ·分子印迹技术概述 | 第14页 |
| ·分子印迹技术基本理论 | 第14-15页 |
| ·分子印迹聚合物原料的选择 | 第15-18页 |
| ·分子印迹聚合物的聚合方式 | 第18-20页 |
| ·分子印迹技术的应用 | 第20-21页 |
| ·课题的研究背景与意义 | 第21页 |
| ·课题的研究背景 | 第21页 |
| ·研究目的和意义 | 第21页 |
| ·课题研究的主要内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验方法 | 第23-32页 |
| ·实验仪器及试剂 | 第23-25页 |
| ·实验仪器和设备 | 第23-24页 |
| ·实验试剂 | 第24-25页 |
| ·实验及测试 | 第25-32页 |
| ·ATRP 聚合在硅胶表面接枝分子印迹聚合物 | 第25-26页 |
| ·ATRP 聚合在石墨烯表面接枝分子印迹聚合物 | 第26-29页 |
| ·印迹聚合物的表征及测试 | 第29-32页 |
| 第3章 ATRP 聚合在硅胶表面接枝印迹聚合物 | 第32-44页 |
| ·印迹聚合物膜结构表征 | 第32-38页 |
| ·热重分析 | 第32页 |
| ·红外光谱分析 | 第32-33页 |
| ·EDS 能谱分析 | 第33-35页 |
| ·扫描电镜分析 | 第35页 |
| ·有机元素分析 | 第35-37页 |
| ·N2 吸附-脱附试验 | 第37-38页 |
| ·印迹聚合物膜吸附性能测试 | 第38-42页 |
| ·热力学与动力学吸附 | 第38-39页 |
| ·竞争吸附 | 第39-40页 |
| ·Scatchard 方程分析 | 第40-41页 |
| ·Langmuir 等温式分析 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第4章 ATRP 聚合在石墨烯表面接枝印迹聚合物 | 第44-57页 |
| ·印迹聚合物膜结构表征 | 第44-52页 |
| ·红外光谱分析 | 第44-46页 |
| ·热重-差热分析 | 第46-48页 |
| ·EDS 能谱分析 | 第48-49页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第49-50页 |
| ·扫描电镜、透射电镜分析 | 第50-51页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第51-52页 |
| ·印迹聚合物膜吸附性能测试 | 第52-56页 |
| ·热力学与动力学吸附 | 第52-54页 |
| ·竞争吸附 | 第54页 |
| ·Scatchard 方程分析 | 第54-55页 |
| ·Langmuir 等温式分析 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
