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基于密度泛函理论的二氧化锡电学性质研究及其薄膜制备

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第一章 绪论第9-17页
    1.1 气敏传感器概述第9-10页
        1.1.1 研究背景第9页
        1.1.2 气敏传感器的发展及分类第9-10页
    1.2 SnO_2气敏材料概述第10-14页
        1.2.1 SnO_2的基本物理性质第11页
        1.2.2 SnO_2的气敏机理第11-12页
        1.2.3 SnO_2的制备第12-14页
    1.3 计算材料学研究现状与发展第14-15页
    1.4 论文主要工作和安排第15-17页
第二章 理论基础第17-25页
    2.1 引言第17页
    2.2 密度泛函理论第17-21页
        2.2.1 薛定谔方程第17-18页
        2.2.2 近似方法第18-19页
        2.2.3 Hohenberg-Kohn定理第19-20页
        2.2.4 Kohn-Sham方程第20-21页
    2.3 交换关联能泛函第21-22页
        2.3.1 局域密度近似(LDA)第21-22页
        2.3.2 广义梯度密度近似(GGA)第22页
    2.4 物理量意义第22-24页
        2.4.1 能带结构第22-23页
        2.4.2 电子态密度第23页
        2.4.3 Mulliken集居数第23-24页
    2.5 软件介绍第24-25页
第三章 Zn掺杂SnO_2晶体的第一性原理研究第25-36页
    3.1 前言第25页
    3.2 SnO_2晶体结构的构建及优化第25-29页
        3.2.1 纯净的SnO_2晶体结构第25-26页
        3.2.2 计算参数设定第26页
        3.2.3 结果分析第26-29页
    3.3 Zn掺杂的模型构建及优化第29-34页
        3.3.1 构建Zn掺杂模型第29-30页
        3.3.2 结果分析第30-34页
    3.4 本章小结第34-36页
第四章 SnO_2(110)表面吸附氧的第一性原理研究第36-48页
    4.1 前言第36页
    4.2 SnO_2(110)表面结构及优化第36-39页
        4.2.1 SnO_2(110)切面模型第36-38页
        4.2.2 结果分析第38-39页
    4.3 表面吸附模型第39-41页
        4.3.1 O_2分子模型的建立第39页
        4.3.2 还原(110)面结构模型第39-40页
        4.3.3 O_2吸附模型第40-41页
    4.4 结果及分析第41-47页
        4.4.1 氧化(110)面和还原(110)面结构优化第41-42页
        4.4.2 吸附模型优化结构分析第42-44页
        4.4.3 最佳吸附模型确定第44-45页
        4.4.4 吸附模型态密度分析第45-46页
        4.4.5 吸附模型集居数分析第46-47页
    4.5 小结第47-48页
第五章 SnO_2薄膜制备第48-56页
    5.1 引言第48页
    5.2 实验过程第48-51页
        5.2.1 薄膜制备第48-50页
        5.2.2 薄膜表征第50-51页
    5.3 SnO_2薄膜分析第51-55页
        5.3.1 退火温度对薄膜影响第51-53页
        5.3.2 Zn掺杂对薄膜影响第53-55页
    5.4 小结第55-56页
第六章 总结与展望第56-58页
参考文献第58-60页
附录 攻读硕士学位期间撰写的论文第60-61页
致谢第61页

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