微观结构及缺陷对YSZ涂层的阻尼性能影响研究
摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第12-22页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 ZrO_2涂层的国内外综述 | 第12-16页 |
1.2.1 氧化锆涂层 | 第12-13页 |
1.2.2 阻尼涂层研究现状 | 第13-15页 |
1.2.3 涂层阻尼表征 | 第15-16页 |
1.3 阻尼性能的表征 | 第16-17页 |
1.4 分子动力学方法 | 第17-19页 |
1.5 选题依据 | 第19页 |
1.6 课题的研究内容及研究目的意义 | 第19-22页 |
第2章 实验原理和方法 | 第22-32页 |
2.1 引言 | 第22页 |
2.2 电子束物理气相沉积(EB-PV D)技术 | 第22-23页 |
2.2.1 EB-PVD原理 | 第22-23页 |
2.2.2 EB-PVD技术的优缺点 | 第23页 |
2.3 EB-PVD设备 | 第23-24页 |
2.4 实验方案路线 | 第24-25页 |
2.5 实验材料 | 第25页 |
2.6 YSZ涂层的制备 | 第25-27页 |
2.7 涂层微观结构表征方法 | 第27-29页 |
2.7.1 表面形貌检测 | 第27-28页 |
2.7.2 化学成分分析 | 第28页 |
2.7.3 物相分析 | 第28-29页 |
2.8 涂层试样的阻尼性能测试 | 第29-30页 |
2.9 本章小结 | 第30-32页 |
第3章 YSZ涂层的表征与分析 | 第32-50页 |
3.1 引言 | 第32页 |
3.2 YSZ涂层表面形貌分析 | 第32-38页 |
3.2.1 基片温度对涂层表面形貌的影响 | 第32-35页 |
3.2.2 蒸发束流对涂层表面形貌的影响 | 第35-37页 |
3.2.3 涂层断面微观形貌 | 第37-38页 |
3.3 YSZ涂层物相分析 | 第38-43页 |
3.3.1 物相随束流变化 | 第38-40页 |
3.3.2 物相随温度变化 | 第40-41页 |
3.3.3 涂层晶粒尺寸 | 第41-43页 |
3.4 YSZ涂层化学成分分析 | 第43-46页 |
3.5 缺陷生成原因 | 第46-48页 |
3.6 本章小结 | 第48-50页 |
第4章 YSZ涂层的阻尼机理研究 | 第50-64页 |
4.1 引言 | 第50-52页 |
4.2 阻尼测试 | 第52-55页 |
4.2.1 阻尼测试参数设定 | 第52-53页 |
4.2.2 阻尼测试结果 | 第53-55页 |
4.3 YSZ涂层损耗因子的变化规律 | 第55-57页 |
4.3.1 基片温度对损耗因子的影响 | 第55-56页 |
4.3.2 蒸发束流对损耗因子的影响 | 第56-57页 |
4.4 YSZ涂层储能模量的变化规律 | 第57-59页 |
4.4.1 基片温度对储能模量的影响 | 第57-58页 |
4.4.2 蒸发束流对储能模量的影响 | 第58-59页 |
4.5 微观结构对YSZ涂层阻尼性能的影响 | 第59-62页 |
4.5.1 物相对阻尼的影响 | 第59-61页 |
4.5.2 缺陷对阻尼的影响 | 第61-62页 |
4.6 本章小结 | 第62-64页 |
第5章 缺陷结构的分子动力学研究 | 第64-76页 |
5.1 引言 | 第64-66页 |
5.2 分子模型的建立 | 第66-67页 |
5.2.1 分子动力学的基本原理 | 第66页 |
5.2.2 分子动力学研究的一般方法 | 第66-67页 |
5.3 分子动力学模型建立 | 第67-70页 |
5.3.1 边界条件 | 第67页 |
5.3.2 势函数 | 第67-68页 |
5.3.3 热力学系综 | 第68-69页 |
5.3.4 变量调控 | 第69-70页 |
5.3.5 模型设计 | 第70页 |
5.4 金属氧化物模型的搭建 | 第70-72页 |
5.4.1 无缺陷金属氧化物晶型的搭建 | 第70-72页 |
5.4.2 模型空位模拟 | 第72页 |
5.5 驰豫分析 | 第72-73页 |
5.6 加载与卸载方式 | 第73页 |
5.7 模型结果分析 | 第73-75页 |
5.8 能量变化及阻尼机理分析 | 第75页 |
5.9 本章小结 | 第75-76页 |
第6章 结论及展望 | 第76-78页 |
6.1 结论 | 第76-77页 |
6.2 展望 | 第77-78页 |
参考文献 | 第78-84页 |
致谢 | 第84-85页 |
附录 | 第85页 |