摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第13-37页 |
1.1 碳纳米管 | 第13-17页 |
1.1.1 引言 | 第13-14页 |
1.1.2 碳纳米管的结构 | 第14-15页 |
1.1.3 碳纳米管的优异性能 | 第15-17页 |
1.2 碳纳米管垂直阵列 | 第17-25页 |
1.2.1 碳纳米管宏观体 | 第17-18页 |
1.2.2 碳纳米管垂直阵列的制备方法 | 第18-19页 |
1.2.3 碳纳米管垂直阵列的生长模式 | 第19-20页 |
1.2.4 碳纳米管垂直阵列的制备研究现状与挑战 | 第20-25页 |
1.2.4.1 碳纳米管垂直阵列的密度控制 | 第20-21页 |
1.2.4.2 碳纳米管垂直阵列的高度控制 | 第21-22页 |
1.2.4.3 碳纳米管垂直阵列的直径控制 | 第22-23页 |
1.2.4.4 碳纳米管垂直阵列的质量控制 | 第23-24页 |
1.2.4.5 碳纳米管垂直阵列的可纺丝性能调控 | 第24-25页 |
1.3 碳纳米管垂直阵列热界面材料 | 第25-34页 |
1.3.1 热界面材料的性能评价 | 第25-27页 |
1.3.2 碳纳米管垂直阵列热界面材料的热导率研究 | 第27-30页 |
1.3.3 碳纳米管垂直阵列热界面材料的接触热阻 | 第30-31页 |
1.3.4 碳纳米管垂直阵列热界面材料的封装 | 第31-34页 |
1.4 本文主要研究内容 | 第34-37页 |
第2章 实验装置和制备方法 | 第37-43页 |
2.1 实验原料与试剂 | 第37页 |
2.2 实验装置及工艺 | 第37-39页 |
2.3 分析表征设备简介 | 第39-43页 |
2.3.1 激光拉曼光谱 | 第39页 |
2.3.2 原子力显微镜 | 第39-40页 |
2.3.3 扫描电子显微镜 | 第40页 |
2.3.4 透射电子显微镜 | 第40页 |
2.3.5 热重分析仪 | 第40页 |
2.3.6 X射线光电子能谱分析 | 第40页 |
2.3.7 二次离子质谱仪 | 第40-41页 |
2.3.8 动态力学分析仪 | 第41页 |
2.3.9 热界面材料测试仪 | 第41页 |
2.3.10 激光热导仪 | 第41页 |
2.3.11 红外热像仪 | 第41-43页 |
第3章 铜基底高顺排碳纳米管垂直阵列的反常热收缩 | 第43-65页 |
3.1 引言 | 第43-44页 |
3.2 实验 | 第44-47页 |
3.2.1 碳纳米管垂直阵列的热收缩机制 | 第44-45页 |
3.2.2 铜箔基底上生长高顺排碳纳米管垂直阵列 | 第45-46页 |
3.2.3 碳纳米管垂直阵列面密度的估算 | 第46-47页 |
3.2.4 传热性能测试 | 第47页 |
3.3 结果与讨论 | 第47-62页 |
3.3.1 铜基底高顺排碳纳米管垂直阵列结构表征 | 第47-49页 |
3.3.2 高顺排碳纳米管垂直阵列的纺丝性能研究 | 第49-51页 |
3.3.3 铜基底高顺排碳纳米管垂直阵列的热收缩特性 | 第51-55页 |
3.3.4 生长基底和顺排度对热收缩特性的影响 | 第55-60页 |
3.3.5 热收缩碳纳米管垂直阵列的传热性能 | 第60-62页 |
3.4 本章小结 | 第62-65页 |
第4章 平整表面碳纳米管垂直阵列的制备与性能研究 | 第65-83页 |
4.1 引言 | 第65-66页 |
4.2 实验 | 第66-71页 |
4.2.1 平整表面碳纳米管垂直阵列的制备 | 第66-67页 |
4.2.2 自支撑碳纳米管垂直阵列的剥离 | 第67页 |
4.2.3 平整表面碳纳米管垂直阵列的热阻测试 | 第67-68页 |
4.2.4 平整表面碳纳米管垂直阵列的热扩散性能测试 | 第68-69页 |
4.2.5 柔性自支撑碳纳米管垂直阵列的弯折性能测试 | 第69-70页 |
4.2.6 柔性自支撑碳纳米管垂直阵列的粘附性能测试 | 第70页 |
4.2.7 柔性自支撑碳纳米管垂直阵列的传热性能测试 | 第70-71页 |
4.3 结果与讨论 | 第71-82页 |
4.3.1 平整表面碳纳米管垂直阵列的结构与生长机理分析 | 第71-75页 |
4.3.2 表面平整碳纳米管垂直阵列的传热性能 | 第75-77页 |
4.3.3 柔性碳纳米管垂直阵列热界面材料的制备 | 第77-80页 |
4.3.4 柔性碳纳米管垂直阵列的传热性能测试 | 第80-82页 |
4.4 本章小结 | 第82-83页 |
第5章 碳纳米管垂直阵列的洁净、快速按压转移 | 第83-107页 |
5.1 引言 | 第83-84页 |
5.2 实验 | 第84-88页 |
5.2.1 不同面密度碳纳米管垂直阵列的制备 | 第84-85页 |
5.2.2 碳纳米管垂直阵列的按压转移 | 第85页 |
5.2.3 垂直粘附强度测试 | 第85-86页 |
5.2.4 CPU散热性能验证 | 第86-87页 |
5.2.5 转移后碳纳米管垂直阵列的本征热导率估算 | 第87页 |
5.2.6 碳纳米管垂直阵列条带导电性能测试 | 第87-88页 |
5.3 结果与讨论 | 第88-105页 |
5.3.1 不同而密度碳纳米管垂直阵列的结构表征 | 第88-89页 |
5.3.2 不同面密度碳纳米管垂直阵列与生长基底间垂直粘附强度分析 | 第89-93页 |
5.3.3 碳纳米管垂直阵列的按压转移机制 | 第93页 |
5.3.4 碳纳米管垂直阵列的按压转移结果分析 | 第93-97页 |
5.3.5 图案化碳纳米管垂直阵列的按压转移 | 第97-98页 |
5.3.6 碳纳米管垂直阵列热界面材料 | 第98-103页 |
5.3.7 碳纳米管柔性透明电极的制备及性能研究 | 第103-105页 |
5.4 本章小结 | 第105-107页 |
第6章 总结 | 第107-111页 |
6.1 论文的主要结论 | 第107-108页 |
6.2 论文的主要创新点 | 第108-109页 |
6.3 未来工作展望 | 第109-111页 |
参考文献 | 第111-127页 |
致谢 | 第127-129页 |
攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第129-131页 |
作者简介 | 第131页 |