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Pb(Zr0.52Ti0.48)O3铁电薄膜的制备及阻变特性研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第1章 绪论第11-23页
    1.1 引言第11-12页
    1.2 铁电材料研究背景和PZT简介第12-15页
    1.3 PZT靶材的制备第15-21页
        1.3.1 高温时Pb过量的讨论第16-17页
        1.3.2 烧结过程中的局部相波动第17-19页
        1.3.3 PZT靶材的分层现象以及解决方法第19-21页
    1.4 本文的研究内容第21-22页
    参考文献第22-23页
第2章 PZT薄膜常用的制备方法、衬底和表征手段第23-34页
    2.1 PZT薄膜常用的制备方法第23-27页
        2.1.1 激光脉冲法第23-24页
        2.1.2 溶胶-凝胶法第24-25页
        2.1.3 水热法第25-27页
    2.2 PZT薄膜常用的衬底第27-28页
    2.3 PZT薄膜器件常用的表征手段第28-31页
        2.3.1 X射线衍射仪(XRD)第28-29页
        2.3.2 Keithley2400用于I-V测试第29-30页
        2.3.3 PFM-压电力显微镜第30-31页
    2.4 本章小结第31-32页
    参考文献第32-34页
第3章 PZT/SRO/STO薄膜器件的制备及电学测试第34-48页
    3.1 钌酸锶(SRO)靶材的处理及薄膜的制备第34-35页
    3.2 钌酸锶的电阻率测量第35-37页
    3.3 Pt/PZT/SRO/STO器件的电学测试第37-44页
        3.3.1 SRO和PZT薄膜的XRD图谱第37-39页
        3.3.2 Pt/PZT/SRO/STO器件的C-V测试第39-40页
        3.3.3 Pt/PZT/SRO/STO器件的P-V测试第40-42页
        3.3.4 PZT薄膜的SEM测试第42-43页
        3.3.5 PZT薄膜的I-V测试第43-44页
    3.4 本章小结第44-46页
    参考文献第46-48页
第4章 NSTO衬底上制备PZT薄膜及电学测试第48-62页
    4.1 NSTO上制备PZT薄膜第48-49页
    4.2 NSTO上制备PZT薄膜的XRD图第49-50页
    4.3 Pt/PZT/NSTO结构的电学测试第50-59页
        4.3.1 Pt/PZT/NSTO结构的I-V测试第50-52页
        4.3.2 PZT薄膜的压电力显微镜(PFM)测试第52-56页
        4.3.3 Pt/PZT/NSTO结构的I-Vpulse测试第56-57页
        4.3.4 PZT薄膜器件的保持性和循环性第57-58页
        4.3.5 NSTO衬底上的PZT薄膜器件阻变特性的定性解释第58-59页
    4.4 本章小结第59-60页
    参考文献第60-62页
总结第62-64页
致谢第64-65页
攻读学位期间发表的学术论文第65-66页

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