| 摘要 | 第2-3页 |
| abstract | 第3页 |
| 第一章 引言 | 第6-12页 |
| 1.1 二维材料概述 | 第6页 |
| 1.2 二维材料介绍 | 第6-8页 |
| 1.2.1 二维材料分类 | 第6-7页 |
| 1.2.2 二维材料制备 | 第7页 |
| 1.2.3 二维材料应用 | 第7-8页 |
| 1.3 微纳加工方法概述 | 第8-10页 |
| 1.3.1 光刻技术 | 第8-9页 |
| 1.3.2 薄膜技术 | 第9-10页 |
| 1.3.3 刻蚀技术 | 第10页 |
| 1.4 本章小结 | 第10-12页 |
| 第二章 改进CVD法高效制备二硫化锡纳米片 | 第12-18页 |
| 2.1 前言 | 第12-13页 |
| 2.2 实验部分 | 第13页 |
| 2.2.1 实验材料与仪器 | 第13页 |
| 2.2.2 实验步骤与方法 | 第13页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第13-17页 |
| 2.3.1 二硫化锡单晶纳米片的形貌表征 | 第13-15页 |
| 2.3.2 二硫化锡纳米片的成分表征 | 第15-16页 |
| 2.3.3 二硫化锡的TEM检测结果和分析 | 第16-17页 |
| 2.4 本章小结 | 第17-18页 |
| 第三章 二硫化锡纳米片在场效应晶体管方面的应用 | 第18-24页 |
| 3.1 前言 | 第18-19页 |
| 3.2 实验部分 | 第19-21页 |
| 3.2.1 实验材料与装置 | 第19-20页 |
| 3.2.2 实验步骤与方法 | 第20-21页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第21-23页 |
| 3.4 本章小节 | 第23-24页 |
| 第四章 二硫化锡纳米片应用于光探测 | 第24-30页 |
| 4.1 前言 | 第24页 |
| 4.2 实验部分 | 第24页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第24-29页 |
| 4.3.1 二硫化锡纳米片在不同强度光照下的光响应 | 第24-26页 |
| 4.3.2 光检测器件的稳定性和响应速率 | 第26-28页 |
| 4.3.3 场效应控制光检测开关比 | 第28-29页 |
| 4.4 本章小节 | 第29-30页 |
| 第五章 二硫化锡光探测器件的性能改进 | 第30-36页 |
| 5.1 前言 | 第30页 |
| 5.2 实验部分 | 第30-31页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第31-35页 |
| 5.4 本章小节 | 第35-36页 |
| 第六章 静电纺丝制备纳米纤维传感器 | 第36-44页 |
| 6.1 前言 | 第36页 |
| 6.2 实验部分 | 第36-37页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第37-43页 |
| 6.3.1 PMMA/PANI应力传感器测试结果 | 第37-39页 |
| 6.3.2 PAN/SiC压力传感器测试结果 | 第39-43页 |
| 6.4 本章小节 | 第43-44页 |
| 总结与展望 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-56页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第56-59页 |
| 1.科研论文 | 第56-58页 |
| 2.申请专利 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |